【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及集成电路装备制造
，更具体的说，涉及。
技术介绍
集成电路的成型需要用到化学显影工艺，这就需要采用显影液喷涂轨道机。现有的主流轨道机中，一般有四个显影槽，上面两个，下面两个，如图I所示，位于同一层的两个显影槽11在同一水平面平行放置，每个显影槽内设置有冲洗模块14并放置有硅片12。每个显影槽各自使用自己的一套显影液喷涂装置13。现有的轨道机成本高昂；每个喷嘴处容易出现结晶状物质影响硅片良率；另外每个显影液喷涂装置定期需要喷吐冲洗(drnnrnydispense)，显影液浪费比较严重；而且不同显影喷涂装置加工出来的硅片之间的线宽不一致，均匀度不好。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种可降低成本、改善硅片良率、减少显影液浪费、提高硅片之间线宽均齐度的显影液喷涂轨道机及其喷涂方法。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的 一种显影液喷涂轨道机，包括至少两个互不交叠的显影槽、以及设置在显影槽上方的显影液喷涂装置，所述显影液喷涂装置包括喷嘴、与喷嘴连接的用于输送显影液的管路、固定喷嘴的机械臂，以及控制喷嘴和机械臂动作的控制单元，所述控...
【技术保护点】
一种显影液喷涂轨道机，包括至少两个互不交叠的显影槽、以及设置在显影槽上方的显影液喷涂装置，所述显影液喷涂装置包括喷嘴、与喷嘴连接的用于输送显影液的管路、固定喷嘴的机械臂，以及控制喷嘴和机械臂动作的控制单元，其特征在于：所述控制单元还包括定位模块，所述定位模块控制所述显影液喷涂装置在所述互不交叠的显影槽之间移动，并交替定位于其中一个显影槽中，进行显影液喷涂工艺。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：袁伟，
申请(专利权)人：上海集成电路研发中心有限公司，
类型：发明
国别省市：
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