【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，更具体地，涉及减少 了工序数量的薄膜晶体管基板和制造该薄膜晶体管基板的方法。
技术介绍
液晶显示装置通过使用电场调整具有电介质各向异性的液晶的透光率来显示图 像。这种液晶显示装置包括液晶显示面板，其包括彼此相对地结合的薄膜晶体管基板和 滤色器基板；背光单元，其向液晶显示面板照射光；以及驱动电路单元，其驱动液晶显示面 板。薄膜晶体管基板包括在下基板上彼此交叉地形成的选通线和数据线，栅绝缘膜 被置于选通线与数据线之间；形成在交叉位置处的薄膜晶体管(TFT);像素电极，其通过接 触孔连接到TFT的漏极；以及应用于薄膜晶体管基板的下配向膜。滤色器基板包括用于实现颜色的滤色器、用于防止漏光的黑底、与像素电极形成 垂直电场的公共电极以及应用于滤色器基板以对液晶进行定向的上配向膜。液晶显示面板可按照扭曲向列(TN)模式形成，在该扭曲向列模式中，电极分别安 装在两个基板上，液晶指向矢被定向为扭曲90°，并通过向所述电极施加电压而被驱动。此 外，可使用共平面开关(IPS:1n-plane switching)模式或边缘场开关(FFS:fringe field sw...
【技术保护点】
一种薄膜晶体管基板，该薄膜晶体管基板包括：多条选通线；与所述多条选通线交叉的多条数据线；薄膜晶体管，所述薄膜晶体管中的每一个包括连接到所述多条选通线的栅极、连接到所述多条数据线的源极、与所述源极相对地形成的漏极以及半导体图案，所述半导体图案与所述栅极交叠，其中在所述半导体图案与所述栅极之间插入了栅绝缘膜；第一钝化膜至第三钝化膜，它们覆盖所述薄膜晶体管，并且包括像素接触孔以露出所述薄膜晶体管中的每一个的漏极；像素电极，所述像素电极连接到所述漏极，并且形成在所述第三钝化膜的凹槽内；以及公共电极，所述公共电极与所述像素电极一起形成边缘场，并且所述公共电极与所述像素电极被所述公共电...
【技术特征摘要】
2011.10.06 KR 10-2011-01019591.一种薄膜晶体管基板，该薄膜晶体管基板包括 多条选通线； 与所述多条选通线交叉的多条数据线； 薄膜晶体管，所述薄膜晶体管中的每一个包括连接到所述多条选通线的栅极、连接到所述多条数据线的源极、与所述源极相对地形成的漏极以及半导体图案，所述半导体图案与所述栅极交叠，其中在所述半导体图案与所述栅极之间插入了栅绝缘膜； 第一钝化膜至第三钝化膜，它们覆盖所述薄膜晶体管，并且包括像素接触孔以露出所述薄膜晶体管中的每一个的漏极； 像素电极，所述像素电极连接到所述漏极，并且形成在所述第三钝化膜的凹槽内；以及公共电极，所述公共电极与所述像素电极一起形成边缘场，并且所述公共电极与所述像素电极被所述公共电极与所述第三钝化膜的底切结构提供的空间隔开。2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管基板，该薄膜晶体管基板还包括 栅焊盘，所述栅焊盘连接到所述多条选通线；以及 数据焊盘，所述数据焊盘连接到所述多条数据线。3.根据权利要求2所述的薄膜晶体管基板，其中所述栅焊盘中的每一个包括 栅焊盘下电极，其连接到所述多条选通线； 第一栅接触孔至第四栅接触孔，它们穿过所述第一钝化膜至所述第三钝化膜以及所述栅绝缘膜；以及 栅焊盘上电极，其连接到所述栅焊盘下电极，在与所述像素电极相同的层中由与所述像素电极相同的材料形成，并且所述栅焊盘上电极与所述公共电极被所述底切结构提供的空间隔开。4.根据权利要求2所述的薄膜晶体管基板，其中所述数据焊盘中的每一个包括 数据焊盘下电极，其连接到所述多条数据线； 第一数据接触孔至第三数据接触孔，它们穿过所述第一钝化膜至所述第三钝化膜；以及 数据焊盘上电极，其连接到所述数据焊盘下电极，在与所述像素电极相同的层中由与所述像素电极相同的材料形成，并且所述数据焊盘上电极与所述公共电极被所述底切结构提供的空间隔开。5.根据权利要求1所述的薄膜晶体管基板，其中所述像素电极的厚度大于所述公共电极的厚度。6.根据权利要求1所述的薄膜晶体管基板，其中所述第三钝化膜的宽度小于所述第二钝化膜的宽度。7.—种制造薄膜晶体管基板的方法，该方法包括 通过第一掩模工序，在基板上形成包括栅极和选通线的第一导电图案； 在具有所述第一导电图案的所述基板上淀积栅绝缘膜，并且通过第二掩模工序在所述栅绝缘膜上形成包括半导体图案、源极和漏极以及数据线的第二导电图案；在具有所述第二导电图案的所述基板上淀积第一钝化膜和第二钝化膜，并且通过第三掩模工序形成穿过所述第一钝化膜和所述第二钝化膜并露出所述漏极的像素接触孔；以及通过第四掩模工序，在所述第一钝化膜和所述第二钝化膜上形成包括公共电极和公共线的第三导电图案，同时形成与所述公共电极形成底切结构的第三钝化膜，并且通过掀离...
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