一种对称式折反射光学系统技术方案

本发明专利技术提出一种大视场的对称式折反射光学系统，用于光刻曝光系统，沿光线传播方向依次包括：物面；第一反射镜；第一透镜组；一光阑；第二透镜组；第二反射镜；像面；其中，所述各光学元件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑对称。本发明专利技术的大视场对称式折反射光学系统，是满足ghi三线，双远心对称式的1倍折反射式投影物镜，满足实际产品需求。同时由于采用对称式设计，垂轴像差，慧差，畸变，倍率色差将会很小；用于补偿的折射镜组位于两主反射镜中间的光阑附近，所以有效减小了折射元件的口径，折射元件的口径和视场的比值做到了将近1：2，从而有效地控制了成本和加工难度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造
，具体地涉及一种用于光刻装置的大视场对称式折反射光学系统。
技术介绍
IXD显示器，LED显示器等平板显示器FH)的制作，涉及与集成电路(IC)工业类似的制作工艺，把掩模板的图形通过曝光系统成像，使涂在基板上的光刻胶曝光，再处理已曝光的基板就得到电路图形，再使基板与其它部件集成，就能得到平板显示屏。传统的制作FPD的方法，例如美国专利US5710619，US4769680是采用拼接成像的技术，虽然显示器的尺寸达到了 18英寸，但成品率，产率和拼接相邻电路之间的对准问题使得生产出来的FPD成本很高。在中国专利CNl577102A中，设计放大率I倍的用于42寸，54寸，60寸平板显示器FPD生产的光学系统，采用了折反射式结构，由包含第一反射镜，第二反射镜的主反射镜，和附反射镜，以及放在物方和像方的各一组折射校正单元组成，在此专利中用于补偿像差的折射校正单元是放到主反射镜和基板或掩模之间，并且像方是圆环弧型视场，此专利补偿折射单元镜片的口径将接近于视场的大小，比如要制作42寸的FPD，相当于视场525mm，所以射单元镜片的口径将接近于525mm，折射校正单本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻曝光系统的对称式折反射光学系统，其特征在于沿光线传播方向依次包括：物面；一第一反射镜；一第一透镜组；一光阑；一第二透镜组；一第二反射镜；像面；其中，所述各光学元件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑的中心对称。

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻曝光系统的对称式折反射光学系统，其特征在于沿光线传播方向依次包括物面；一第一反射镜；一第一透镜组；ー光阑；一第二透镜组；一第二反射镜；像面；其中，所述各光学兀件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑的中心对称。2.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学系统成像最大视场与所述透镜组的数值孔径之比大于1:1。3.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述第一反射镜和第二反射镜为凹面反射镜，且曲率半径相等。4.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述第一透镜组沿光线传播方向依次包括第一透镜，第二透镜，所述第二透镜组沿光线传播方向依次包括第三透镜，第四透镜，所述第一透镜为弯月透镜，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭银章，武珩，徐涛，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：