投影光学系统以及图像投影设备技术方案

公开了一种投影光学系统，其包括第一光学系统和第二光学系统，该第一光学系统构造为形成与物体共轭的第一图像并具有光轴，该第二光学系统构造为投影与第一图像共轭的第二图像到要投影到其上的表面上，其中，该第一图像满足以下条件：Im×Tr≤1.70其中Im表示该第一图像在该第一光学系统的光轴方向上的长度，该Im被该第一光学系统的焦距标准化，并且Tr表示该投影光学系统的投射比。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的至少一个方面涉及至少一个投影光学系统和图像投影设备。
技术介绍
公开了涉及投影光学系统和图像投影设备中至少一种的传统技术。例如，日本专利申请公开NO. 2007-079524(专利文件I)公开了从缩小侧的一次图像平面到放大侧的二次图像平面进行放大和投影的投影光学系统，其特征在于该投影光学系统包括成像一次图像平面的中间图像的第一光学系统和具有从该中间图像形成二次图像平面的凹反射表面的第二光学系统，其中从一次图像平面的中心传播到二次图像平面的中心的光线与第一光学系统的光轴相交，接着该光线从该凹反射表面被反射，再次与光轴相交，并到达二次图像平面。 例如，日本专利申请NO. 2008-116688(专利文件2)公开了从缩小侧的一次图像平面到放大侧的二次图像平面进行放大和投影的投影光学系统，其特征在于该投影光学系统包括成像一次图像平面的中间图像的第一光学系统以及具有一个形成在中间图像的二次图像侧的凹反射表面的第二光学系统，该第一光学系统由负折射力的第一组、正折射力的第二组、中间光阑以及该光阑的中间图像侧的正折射力的第三组组成，其中组成第一光学系统和第二光学系统的每个表面被构造为以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种投影光学系统，包括：第一光学系统，该第一光学系统被构造为形成与物体共轭的第一图像并且具有光轴；第二光学系统，该第二光学系统被构造为投影与所述第一图像共轭的第二图像到要投影到其上的表面上，其中该第一图像满足以下条件：Im×Tr≤1.70其中Im表示所述第一图像在所述第一光学系统的光轴方向上的长度，所述Im被所述第一光学系统的焦距标准化；并且Tr表示所述投影光学系统的投射比。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：高桥达也，藤田和弘，安部一成，
申请(专利权)人：株式会社理光，
类型：发明
国别省市：