一种大视场折反射投影物镜制造技术

本发明专利技术一种大视场折返射投影物镜，包括：一第一光学镜组，其中光学元件均为透镜，镜组的光焦度为正；一第二光学镜组，其中至少包括两个反射镜以及三个透镜，镜组光焦度为正；其中，所述第一第二光学镜组的光学元件均同轴，且所述两个反射镜位于光路的最后，将光路折返，以缩短光程。本发明专利技术的投影物镜在能够实现2x放大倍率设计，满足实际的产品需求的同时，反射镜尺寸大大减小，降低了制造难度，并使视场的高度与宽度比控制在合理的范围内。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造
，具体地，涉及一种应用于半导体光刻装置的大视场折反射投影物镜。
技术介绍
目前在半导体或液晶平板(FPDs)加工领域，折反射或全反射系统由于其在色差校正方面的优势，有着多种不同形式的应用。且多数以大的曝光视场，宽光谱带宽为考虑的主要设计目标，同时为了配合掩模尺寸，很多光学系统采用大于I倍甚至接近2倍放大倍率的投影物镜。美国专利US2004/0263429A1介绍了一种平板显示(FPDs)用投影物镜，曝光光谱为ghi线，主要由一片反射主镜(可分为两部分)，一片反射次镜构成。专利第一实施例中还包含两块玻璃平板，可以形成环状视场高度550mm，宽度为IOmm ;专利第二实施例中还包含一块大尺寸的非球面弯月透镜，形成的环状视场高度700mm，宽度120mm。两个实施例的放大倍率都为I倍，且其中大部分光焦度由两片反射镜承担，其加工的难度主要体现在大尺寸反射主镜上，使用这种结构反射主镜的口径要接近环状视场高度的3倍，即使反射主镜分为两部分制造，其口径也达到环状视场高度的I. 5倍左右。专利的第二实施例增大了视场，也是依赖于反射主镜口径的增大，同时光学系统的整体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大视场折反射投影物镜，其特征在于包括：一第一光学镜组，其中光学元件均为透镜，镜组的光焦度为正；一第二光学镜组，其中至少包括两个反射镜以及三个透镜，镜组光焦度为正；其中，所述第一第二光学镜组的光学元件均同轴，且所述两个反射镜位于光路的最后，将光路折返，以缩短光程；其中，所述大视场折反射投影物镜放大倍率大于1。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：武珩，黄玲，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：