一种大视场折反射投影光学系统技术方案

本发明专利技术一种大视场折反射投影光学系统，沿光线传播方向依次经过第一光学镜片，第一透镜，第一反射镜，第二透镜，第三透镜；其中，所述第一光学镜片包含一透射部，及一反射部，且所述各光学元件在同一光轴上。本发明专利技术提出的一种i线一倍投影光学系统，能校正大视场范围内畸变、场曲、像散，并实现物像空间的双远心。在实现了NA0.1的数值孔径设计，满足实际的产品需求的同时，具有大的曝光视场，而且镜片数量减少到5片。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造
，具体地涉及一种用于光刻装置的大视场折反射投影光学系统。
技术介绍
IXD显示器，LED显示器等 平板显示器FH)的制作，涉及与集成电路(IC)工业类似的制作工艺，把掩模板的图形通过曝光系统成像，使涂在基板上的光刻胶曝光，再处理已曝光的基板就得到电路图形，再使基板与其它部件集成，就能得到平板显示屏。欧洲专利EP1959289介绍了一种大视场的折反射投影物镜，曝光光谱为ghi线设计，专利第一实施例由两片主反射和七片补偿副透镜构成，镜片的数量为9片。可以提供的最大视场为130mm，实施例的放大倍率都为I倍，数值孔径O. 2。综合上述
技术介绍
，需要设计一种NA为O. I的一倍投影光刻物镜，像质和视场达到或接近背景专利，而结构设计则要用较少的镜片数量降低镜头成本。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术中的缺陷，提出一种既可以达到设计要求，同时使用的镜片数量更少，从而降低制造成本的投影光学系统。本专利技术一种大视场折反射投影光学系统，所述光学系统包括第一光学镜片，第一透镜，第一反射镜，第二透镜，第三透镜；其中，所述第一光学镜片包含一透射部，及一反射部，且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种折反射投影光学系统，其特征在于：所述光学系统包括第一光学镜片，第一透镜，第一反射镜，第二透镜，第三透镜；其中，所述第一光学镜片包含一透射部，及一反射部，且所述各光学元件在同一光轴上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郭银章，黄玲，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：