一种抗反射透明光学膜制造技术

本实用新型专利技术提供一种抗反射透明光学膜，包括TAC基材层、普通HC硬涂层、高折射率HR硬涂层、以及低折射率LR硬涂层，所述普通HC硬涂层设置于所述TAC基材层的表面上，所述高折射率HR硬涂层设置于所述普通HC硬涂层上，所述低折射率LR硬涂层设置于所述高折射率HR硬涂层上，其特征在于，所述高折射率HR硬涂层折射率范围为1.65‑1.77，所述低折射率LR硬涂层折射率范围为1.33‑1.37，所述普通HC硬涂层的折射率范围为1.48‑1.52，该抗反射透明光学膜通过折射率的搭配可有效的减轻彩虹纹的同时降低反射率，提高耐磨和环境信赖性。

【技术实现步骤摘要】
一种抗反射透明光学膜
：本技术涉及光学膜领域，尤其涉及抗反射光学膜。
技术介绍
：由于显示器是人与机器沟通的界面，所以被广泛应用在日常生活中。在使用显示器时，影像清晰度直接影响着观看者的舒适度，由于光源在显示器表面之玻璃或者塑料基材(比如PET、TAC、PC等)的表面约有5％左右甚至更高的反射率，因此，人们在使用显示器时，很容易受到外界光源的干扰，比如会在显示器看到外界的影像等，那么最好的解决方法就是在表面做抗反射处理。抗反射膜早期是通过干式制程将不同折射率材料蒸镀到基材上，但蒸镀制程速度慢，许多企业都努力开发湿式制程，特别是利用微凹版涂布技术将不同折射率的有机材料涂布在基材(比如PET、TAC、PC等)上，这样能够大幅降低生产成本的目的。目前，市场上也有一些抗反射膜或者减反膜的产品出现，但是大部分产品的物性和光学性能较差，比如：LR层、HR层、HC层与基材(比如TAC)三者之间的折射率匹配性不好，造成较重的彩虹纹，最低反射率在0.5％左右，耐磨较差，环境信赖性较差等。
技术实现思路
：本技术的目的是提供一种抗反射透明光学膜，由于透明基材TAC表面没有预涂层，所以在TAC基材上面涂一层普通HC硬涂层既能增加对TAC的附着力也能增加对HR硬涂层的附着力，将TAC基材层，普通HC硬涂层，HR硬涂层以及LR硬涂层折射率进行合理匹配，可减轻抗反射透明光学膜的彩虹纹同时降低反射率，以及提高抗反射透明光学膜的耐磨性能。为实现上述目的，具体的技术方案为：一种抗反射透明光学膜100，包括TAC基材层101、普通HC硬涂层102、高折射率HR硬涂层103、以及低折射率LR硬涂层104，所述普通HC硬涂层102设置于所述TAC基材层101的表面上，所述高折射率HR硬涂层103设置于所述普通HC硬涂层102的表面上，所述低折射率LR硬涂层104设置于所述高折射率HR硬涂层103的表面上，其特征在于，所述高折射率HR硬涂层103折射率范围为1.65-1.77，所述低折射率LR硬涂层104折射率范围为1.33-1.37，所述普通HC硬涂层102的折射率范围为1.48-1.52。进一步地，所述普通HC硬涂层102的厚度范围为0.5μm-5μm，所述低折射率LR硬涂层104厚度范围为0.050μm-0.200μm，所述高折射率HR硬涂层103的厚度范围为0.05μm-0.200μm。进一步地，所述普通HC硬涂层102的厚度范围为2μm-4μm，所述低折射率LR硬涂层104厚度范围为0.090μm-0.100μm，所述高折射率HR硬涂层103的厚度范围为0.095μm-0.105μm。进一步地，所述普通HC硬涂层102的铅笔硬度范围为B-3H。进一步地，所述所述抗反射透明光学膜100的反射率小于0.5％。进一步地，所述高折射率HR硬涂层103与所述低折射率LR硬涂层104的折射率差值大于0.2。透明基材TAC搭配普通HC硬涂层，由于TAC基材表明没有预涂层，所以在TAC上面涂一层普通HC硬涂层，所述普通HC硬涂层既能增加对TAC基材的附着力也能增加对HR硬涂层的附着力。有益效果：本技术提供的一种抗反射透明光学膜，由于普通HC硬涂层、高折射率HR硬涂层和低折射率LR硬涂层之间有很好的折射率匹配性，通过折射率的合理搭配制可有效的减轻彩虹纹的同时降低反射率、提高耐磨和环境信赖性的技术问题。附图说明：图1示出了本申请的一种抗反射透明光学膜结构。其中，100：抗反射透明光学膜，101：TAC基材层，102：普通HC硬涂层，103：高折射率HR硬涂层，104：低折射率LR硬涂层。具体实施方式：实施例1在日本东丽公司80μmTAC的基材101上涂布厂家为迪爱生，型号为FZ001折射率为1.52的普通HC胶水，经热烘箱干燥UV固化成3μm普通HC硬涂层102，在所述普通HC硬化层102的上面涂布厂家为日本荒川，FP003折射率为1.65的HR胶水，经热烘箱干燥，UV固化成0.1μm的高折射率HR硬涂层103，在所述高折射率HR硬涂层上面涂布厂家为日本JSR公司，TU2361折射率为1.33的LR胶水，经热烘箱干燥，UV固化成0.1μm的低折射率LR硬涂层104，得到产品AR膜，标记为AR1。实施例2在日本东丽公司80μmTAC的基材101上涂布厂家为迪爱生，型号为FZ001折射率为1.52的普通HC胶水，经热烘箱干燥UV固化成3μm普通HC硬涂层102，在所述普通HC硬涂层102上面涂布厂家为日本荒川，型号为A-2102折射率为1.77的HR胶水，经热烘箱干燥，UV固化成0.1μm的高折射率HR硬涂层103，在所述高折射率HR硬涂层103上涂布厂家为日本JSR公司，型号为TU2359折射率为1.37的LR胶水，经热烘箱干燥，UV固化成0.1μm的低折射率LR硬涂层104，得到产品AR膜，标记为AR2。实施例3在日本东丽公司80μmTAC的基材101上涂布厂家为迪爱生，型号为FZ001折射率为1.52的普通HC胶水，经热烘箱干燥UV固化成3μm普通HC硬涂层102，在所述普通HC硬涂层102上面涂布厂家为日本荒川，型号为FP003折射率为1.65的HR胶水，经热烘箱干燥，UV固化成0.1μm的高折射率HR硬涂层103，在所述高折射率HR硬涂层103上涂布厂家为日本JSR公司，型号为TU2359折射率为1.37的LR胶水，经热烘箱干燥，UV固化成0.1μm的低折射率LR硬涂层104，得到产品AR膜，标记为AR3。用分光光度计测实验样品在400-700nm范围内的反射率、彩虹纹、耐磨性能，测试结果见表1。实施例1实施例2实施例3反射率最低点0.30％0.10％0.50％彩虹纹√√√耐磨(200g,10次)√√√从测试结果可以发现将TAC基材层101，普通HC硬涂层102，高折射率HR硬涂层103以及低折射率LR硬涂层104折射率进行合理匹配，可减轻抗反射透明光学膜的彩虹纹同时降低反射率，当高折射率HR硬涂层与低折射率LR硬涂层折射率差值高于0.2时抗反射的效果更佳。为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。以上所述仅为专利技术的较佳实施例，并不限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。企图据以对本技术作任何形式上之限制，是以，凡有在相同之专利技术精神下所作有关本技术之任何修饰或变更，皆仍应包括在本技术意图保护之范畴。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗反射透明光学膜(100)，包括TAC基材层(101)、普通HC硬涂层(102)、高折射率HR硬涂层(103)、以及低折射率LR硬涂层(104)，所述普通HC硬涂层(102)设置于所述TAC基材层(101)的表面上，所述高折射率HR硬涂层(103)设置于所述普通HC硬涂层(102)的表面上，所述低折射率LR硬涂层(104)设置于所述高折射率HR硬涂层(103)的表面上，其特征在于，所述高折射率HR硬涂层(103) 折射率范围为1.65‑1.77，所述低折射率LR硬涂层(104)折射率范围为1.33‑1.37，所述普通HC硬涂层(102)的折射率范围为1.48‑1.52。

【技术特征摘要】
1.一种抗反射透明光学膜(100)，包括TAC基材层(101)、普通HC硬涂层(102)、高折射率HR硬涂层(103)、以及低折射率LR硬涂层(104)，所述普通HC硬涂层(102)设置于所述TAC基材层(101)的表面上，所述高折射率HR硬涂层(103)设置于所述普通HC硬涂层(102)的表面上，所述低折射率LR硬涂层(104)设置于所述高折射率HR硬涂层(103)的表面上，其特征在于，所述高折射率HR硬涂层(103)折射率范围为1.65-1.77，所述低折射率LR硬涂层(104)折射率范围为1.33-1.37，所述普通HC硬涂层(102)的折射率范围为1.48-1.52。2.根据权利要求1所述的抗反射透明光学膜(100)，其特征在于，所述普通HC硬涂层(102)的厚度范围为0.5μm-5μm，所述低折射率LR硬涂层(104)厚度范围为0.050μ...

【专利技术属性】
技术研发人员：耿龙飞，徐金龙，宋明雄，
申请(专利权)人：张家港康得新光电材料有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32