【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
根据本专利技术的示例性实施例的教导主要涉及一种具有高透射率的传导膜。更具体地，根据本专利技术的实施例的教导涉及一种具有多个抗反射涂层以降低反射率且增加透射率的传导膜，一种使用此膜的触摸面板，及其制造方法。
技术介绍
图I是示出根据现有技术的形成有ITO (氧化铟锡)膜和ITO玻璃的触摸面板的透射率的图表。一般地，因为ITO玻璃的透射率比ITO膜高了％透射率，所以形成有ITO膜和ITO玻璃的触摸面板具有实际使用范围的透射率。然而，由于实际上ITO膜的透射率在85 89%水平，ITO膜/ITO玻璃的组合膜的面板结构可以具有算术上小于80%的透射率，这导致没有达到商业要求的透射率。因此，需要 一种具有能够得到清晰图像的高光学透射率的传导膜透射率，并需要具有这种膜的触摸面板。
技术实现思路
技术问题本专利技术旨在全部或部分地解决至少一个或多个前述问题/缺点，并提供一种形成有多个抗反射(AR, anti reflection)涂层的传导膜,该传导膜具有高折射率和低反射率以增加具有相对较低的透射率的ITO膜的透射率，并提供一种使用此传导膜的触摸面板，以及其制造方法。本专利技术将...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.06.22 KR 10-2010-00589991.一种具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜，包括 形成有透明电极图案的传导膜；以及 形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射膜， 其中，所述多个抗反射膜是将基膜、第一二氧化钛膜、第一二氧化硅膜、第二二氧化钛膜和第二二氧化硅膜依次涂覆在所述一个表面上而形成的，以及其中用一氧化硅和二氧化硅中的任意一种涂覆所述基膜。2.一种具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜，包括 形成有透明电极图案的传导膜；以及 形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射膜， 其中所述多个抗反射膜是将第一 Al2O3膜、第一二氧化钛膜、第二 Al2O3膜、第二二氧化钛膜以及第三Al2O3膜依次涂覆在所述一个表面上形成的。3.根据权利要求I或2所述的传导膜，其中所述传导膜是ITO膜、ATO膜和AZO膜中的任意一种。4.根据权利要求I所述的传导膜，其中，如果所涂覆的基膜是一氧化硅，那么所涂覆的基膜的厚度是IlOA 140人,所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是190人 230人,所涂覆的一氧化硅膜的厚度是130A 210A，所涂覆的第二二氧化钛膜是730A 870人，以及所涂覆的第二二氧化硅膜的j V:度圮890.A IOlOAo5.根据权利要求I所述的传导膜，其中，如果所涂覆的基膜是二氧化硅，那么所涂覆的基膜的厚度是1590A 1670A，所涂覆的第一二氧化钛膜的厚度是130A 170人，所涂覆的第一一氧化硅膜的厚度是330A 380A，所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是1190A Π10Α，所涂覆的第二二氧化硅膜的厚度是960A 980A。6.根据权利要求2所述的传导膜，其中，第一Al2O3膜的厚度是970人 1030A，第一一氧化钛膜的厚度是220A 260A,所涂覆的第二 Al2O3膜的厚度是190A 230A,所涂覆的第二二氧化钛膜的厚度是550人 610A，以及所涂覆的第三Al2O3膜的厚度是760A 820A。7.根据权利要求I或2所述的传导膜，其中所涂覆的基膜和所涂覆的第一Al2O3膜的与空气的相对折射率是I. 4^2. I。8.根据权利要求I或2所述的传导膜，其中，所述具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜是通过真空沉积法、喷射法和湿法之一的方法涂覆的膜。9.根据权利要求I或2所述的传导膜，其中光的波长是450nnT650nm。10.一种使用具有高透射率和多个抗反射涂层的传导膜的触摸面板，所述触摸面板包括 形成有透明电极图案的传导膜；以及 形成在所述传导膜的至少一个表面上的用于防止光的反射的多个抗反射涂层；以及 形成在下面形成有所述传导膜的所述多个抗反射涂层膜上的光学胶膜，或形成在所述传导膜的上表面上的光学透明压敏粘合剂膜，其中形成在所述传导膜的上表面上的所述光学胶膜被插置在所述多个抗反射涂层膜之间， 其中，所述多个抗反射涂层是将基膜，第一二...
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