被提供有具有热性质和金属末端层的堆叠体的基材制造技术

本发明专利技术涉及在一个面(11)上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体(14)的基材(10)，这种堆叠体包含至少一个金属功能层(140)，特别地基于银或基于含银金属合金的金属功能层，和至少两个抗反射涂层(120,160)，所述涂层每个包括至少一个电介质层(122,164)，所述功能层(140)被设置于两个抗反射涂层(120,160)之间，所述堆叠体还包含末端层(168)，所述末端层是所述堆叠体的离所述面(11)最远的层，特征在于所述末端层(168)是由锌和锡构成的金属层，其由Sn

Substrate provided with a stack having thermal properties and metal end layers

The present invention relates to a surface (11) is coated with a thin layer in the stack and / or with infrared reflection properties in solar radiation in (14) of the substrate (10), the stack contains at least one metal layer (140), especially based on silver or silver alloy metal based on the metal function the layer, and at least two anti reflective coating (120160), wherein each coating includes at least one dielectric layer (122164), the functional layer (140) is arranged on the two anti reflective coating (120160), the stack also includes terminal layer (168), the terminal layer from the surface of the stack (11) farthest layer, characterized in that the terminal layer (168) is a metallic layer composed of tin and zinc, which is composed of Sn

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】被提供有具有热性质和金属末端层的堆叠体的基材本专利技术涉及一种在一个面上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体的基材，该堆叠体包含至少一个金属功能层，特别是基于银或基于含银金属合金的功能层，以及至少两个抗反射涂层，所述涂层每个包含至少一个电介质层，所述功能层被设置于两个抗反射涂层之间，所述堆叠体还包含末端层，该末端层是该堆叠体的离所述面最远的层。在这种类型的堆叠体中，功能层因此被设置在两个抗反射涂层之间，每个抗反射涂层通常包括多个层，所述层中的每个由氮化物类型的电介质材料，特别是氮化硅或氮化铝，或者氧化物制成。从光学角度来看，这些围绕所述一个或多个金属功能层的涂层的目的是使该金属功能层“抗反射”。然而，阻挡涂层有时被插入在一个或每个抗反射涂层和金属功能层之间；设置于功能层下方(在基材的方向上)的阻挡涂层在任选的弯曲和/或淬火类型的高温热处理期间保护功能层，和设置于功能层上方(在与基材相反的一侧上)的阻挡涂层在上抗反射涂层的沉积期间以及在任选的弯曲和/或淬火类型的高温热处理期间保护该功能层免受任何降解。本专利技术更特别地涉及在堆叠体的末端层(最远离该基材的面(在该面上沉积了堆叠体)的层)的用途，以及借助于产生辐射，特别地红外辐射的源来实施对整个薄层堆叠体的处理。特别是从国际专利申请WO2010/142926已知，提供吸收层作为堆叠体的末端层，并且在沉积堆叠体之后施加处理以便降低发射率或改善低发射性堆叠体的光学性能。金属末端层的使用允许提高吸收并降低处理所需的功率。当末端层在处理期间氧化并变得透明时，处理之后的堆叠体的光学特性是有利的(特别地可以获得高的光透射率)。然而，由于用于该处理的源的不均匀性和/或输送系统的缺陷(其速度从不是完全恒定的)，这种解决方案对于某些应用不能是完全令人满意的。这体现为眼睛可察觉的光学不均匀性(光透射/反射的变化以及从一个点到另一个点的颜色变化)。本专利技术的目的是通过开发一种具有一个或多个功能层的新型层堆叠体来克服现有技术的缺点，该堆叠体在处理后具有低的薄层电阻(因此具有低发射率)、高光透射率，以及外观的均匀性。另一个重要的目的是允许在透射和反射中获得更加均匀的外观。因此，本专利技术的一个主题，在其最宽的意义中，是根据权利要求1的在一个面上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体的基材。这种堆叠体包含至少一个金属功能层，特别地基于银或基于含银金属合金的金属功能层，和至少两个抗反射涂层，所述涂层每个包括至少一个电介质层，所述功能层被设置于两个抗反射涂层之间，所述堆叠体还包含末端层，所述末端层是所述堆叠体的离所述面最远的层。涂覆有堆叠体的基材值得注意的是所述末端层是由锌和锡构成的金属层，由SnxZny制成，其中比率为0.1≤x/y≤2.4，并且具有在0.5nm至5.0nm之间的物理厚度，排除端值，甚至在0.6nm至2.7nm之间的物理厚度，排除端值。通常，术语“电介质层”在本专利技术的意义中应被理解为从其性质的角度来看，该层的材料是“非金属的”，即不是金属。在本专利技术的上下文中，该术语表示在整个可见光的波长范围(380nm至780nm)中具有等于或大于5的n/k比的材料。术语“吸收层”在本专利技术意义中应被理解为是指该层是在整个可见光的波长范围(从380nm至780nm)内具有大于0.5的中等k系数并且具有大于10-6Ω.cm的体积电阻率(如从文献中已知)的材料。回顾的是，n表示材料在给定波长处的真实折射指数，和系数k表示在给定波长处的折射指数的虚部，n/k比在对于n和对于k相同的给定波长下进行计算。在本文件中指示的折射指数的值是如通常在550nm的波长处测量的值。在本专利技术的意义上表述“基于...的层”应当理解是指该层包括大于50at％的所述材料。在本专利技术意义中，术语“金属层”应当理解为该层是如上所指出的吸收性的并且其不包含氧原子或氮原子。根据本专利技术的堆叠体因此包含从金属靶并在不包含主动引入的氧气和氮气的气氛中以金属状态沉积的最终层(英文为“overcoat”)，即保护层。在使用产生辐射，特别是红外辐射的源的处理之后，该层在堆叠体中主要以化学计量地被氧化。在本专利技术的含义内，末端层由锡和锌组成的事实意味着这两种元素占用于沉积该末端层的靶(因此如此沉积的末端层)的重量的98至100％；不排除该层能够包含一种或多种金属元素，例如铝和/或锑，作为用于改善靶的导电的掺杂剂，或作为杂质。根据本专利技术，所述金属末端层优选由x/y比不同于1的SnxZny制成。根据本专利技术，所述金属末端层优选由比率为0.55≤x/y≤0.83的SnxZny制成。在本专利技术的一个特定版本中，所述末端层直接位于基于氮化硅并且不包含氧的电介质层上。这种基于氮化硅的电介质层优选具有在10至50nm之间，甚至在10至30nm之间的物理厚度，这种层优选由掺杂有铝的氮化硅Si3N4制成。在本专利技术的另一个特定版本中，位于所述金属功能层上方的抗反射涂层(在与所述面相反的一侧)包含由折射指数在2.3至2.7之间的材料制成的高折射指数电介质层，这种层优选基于氧化物。在本文件中指示的折射指数值是如通常在550nm的波长处测量的值。该高折射指数层优选具有在5至15nm之间的物理厚度。该高折射指数层允许使堆叠体在可见光范围内的高光透射最大化，并且具有对在透射和反射两者中获得中性色的有利作用。在本专利技术的另一个特定版本中，功能层被直接沉积在设置在该功能层和电介质涂层(在功能层下方下伏)之间的下阻挡涂层的上方和/或该功能层被直接沉积在上阻挡涂层的下方，该上阻挡涂层被设置在功能层和在功能层上方上伏的电介质涂层之间，并且该下阻挡涂层和/或上阻挡涂层包含基于镍或钛的薄层，该薄层具有物理厚度e'，使得0.2nm≤e'≤2.5nm。本专利技术还涉及一种用于获得一种基材的方法，该基材在一个面上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体，该薄层堆叠体包含至少一个金属功能层，特别是基于银或基于含银金属合金的金属功能层，和两个抗反射涂层，该方法以如下顺序包括以下步骤：-在所述基材的一个面上沉积根据本专利技术的在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层叠堆体，该薄层叠堆体包含至少一个金属功能层，特别是基于银或基于含银金属合金的金属功能层，和至少两个抗反射涂层；然后-在包含氧的气氛下，借助于产生辐射，特别是红外辐射的源来处理所述薄层堆叠体，所述末端层的x/y比在所述处理之前和之后是相同的。还可以预期到使用由锌和锡组成的根据本专利技术的金属末端层作为堆叠体的最远离基材的面(在其上沉积该薄层堆叠体)的层，其由SnxZny制成，其中比率为0.1≤x/y≤2.4，并且具有在0.5nm至5.0nm之间的物理厚度，不包括端值，或者甚至在0.6nm至2.7nm之间的物理厚度，不包括端值。还可以预期到包括至少两个通过框架结构保持在一起的基材的多层窗玻璃，所述窗玻璃实现在外部空间和内部空间之间的间隔，其中至少一个中间气体腔被设置于所述两个基材之间，其中一个基材是根据本专利技术的。优选地，包括至少两个基材的多层窗玻璃的一个基材或包括至少三个基材的多层窗玻璃的一个基材在与中间气体腔接触的内表面上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体。该窗玻璃这时至少包本文档来自技高网...

【技术保护点】
在一个面(11)上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体(14)的基材(10)，这种堆叠体包含至少一个金属功能层(140)，特别地基于银或基于含银金属合金的金属功能层，和至少两个抗反射涂层(120,160)，所述涂层每个包括至少一个电介质层(122,164)，所述功能层(140)被设置于两个抗反射涂层(120,160)之间，所述堆叠体还包含末端层(168)，所述末端层是所述堆叠体的离所述面(11)最远的层，特征在于所述末端层(168)是由锌和锡构成的金属层，其由Sn

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.30 FR 14592581.在一个面(11)上涂覆有在红外中和/或在太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠体(14)的基材(10)，这种堆叠体包含至少一个金属功能层(140)，特别地基于银或基于含银金属合金的金属功能层，和至少两个抗反射涂层(120,160)，所述涂层每个包括至少一个电介质层(122,164)，所述功能层(140)被设置于两个抗反射涂层(120,160)之间，所述堆叠体还包含末端层(168)，所述末端层是所述堆叠体的离所述面(11)最远的层，特征在于所述末端层(168)是由锌和锡构成的金属层，其由SnxZny制成，其中具有为0.1≤x/y≤2.4的比率，并具有在0.5nm至5.0nm之间的物理厚度，排除端值，甚至在0.6nm至2.7nm之间的物理厚度，排除端值。2.根据权利要求1所述的基材(10)，其特征在于，所述金属末端层(168)由SnxZny制成，具有为0.55≤x/y≤0.83的比率。3.根据权利要求1或2所述的基材(10)，其特征在于，所述末端层(168)直接位于基于氮化硅并且不包含氧的电介质层的上方。4.根据权利要求3所述的基材(10)，其特征在于，所述基于氮化硅的电介质层具有在10至50nm之间的物理厚度。5.根据权利要求3或4所述的基材(10)，其特征在于，位于与所述面(11)相反的一侧上在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：S布罗萨尔，N梅卡迪耶，R伊里比，B库恩，L卡诺瓦，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃厂，
类型：发明
国别省市：法国,FR