用于为显示器形成防反射涂层的方法技术

本发明专利技术公开了一种显示器，该显示器可具有显示层。可通过在显示层的一个或多个表面上形成防反射涂层来抑制环境光反射。可通过使用溅镀工具沉积交替的高折射率的电介质层和低折射率的电介质层来形成防反射涂层。控制器可控制光谱仪和溅镀工具的操作。为了确保防反射涂层表现出期望的颜色，控制器可指示溅镀工具或其他设备沉积用于防反射涂层的电介质层的子集。然后可利用光谱仪来测量光谱。基于所测量的光谱，可对其余电介质层进行厚度调整或其他调整，以确保防反射涂层颜色匹配目标颜色。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术整体涉及电子设备，并且更具体地涉及具有带有防反射涂层的显示器的电子设备。
技术介绍
电子设备通常包括显示器。例如，蜂窝电话、计算机和电视机具有显示器。显示器的性能可能会受到来自显示器中的各层玻璃的环境光反射的不利影响。例如，在室外环境中，显示器上的图像可能通过来自显示器的表面的过度反射而被模糊。为了解决这个问题，常常为显示器提供防反射涂层。可通过向显示器表面上沉积具有交替的高折射率和低折射率的电介质层来形成防反射涂层。由于所沉积的电介质层的层厚度不精确，防反射涂层常常表现出不期望的色偏。这可能导致在制造具有防反射涂层的显示器时收益率低下。因此，期望能够提供用于在电子设备显示器上形成防反射涂层的改进的方法。
技术实现思路
可通过在显示器中的一个或多个显示层上形成防反射涂层来抑制环境光反射。可通过使用溅镀工具沉积交替的高折射率和低折射率的电介质层来形成防反射涂层。控制器可控制光谱仪和溅镀工具的操作。为了确保防反射涂层表现出目标颜色，使得可由显示器显示图像而没有不期望的色偏，控制器可指示溅镀工具或其他设备沉积用于防反射涂层的电介质层的子集。然后可利用光谱仪来测量光谱。基于来自层的子集的所测量
的光谱，可在沉积其余电介质层时进行厚度调整或其他调整。厚度调整有助于确保防反射涂层的颜色匹配目标颜色。附图说明图1是根据实施方案的具有带有防反射涂层的显示器的示例性电子设备诸如膝上型计算机的透视图。图2是根据实施方案的具有带有防反射涂层的显示器的示例性电子设备诸如手持式电子设备的透视图。图3是根据实施方案的具有带有防反射涂层的显示器的示例性电子设备诸如平板电脑的透视图。图4是根据实施方案的具有带有防反射涂层的显示器的示例性电子设备诸如用于计算机或电视机的显示器的透视图。图5是根据实施方案的具有防反射涂层的示例性显示器的横截面侧视图。图6是根据实施方案的示例性防反射涂层的横截面侧视图。图7是根据实施方案的示例性防反射涂层在可见光波长处的反射光谱的曲线图。图8是示出了根据实施方案的来自防反射层厚度变化的对显示器颜色的影响的颜色空间图。图9是示出了根据实施方案的调整防反射层的顶部处的两个电介质层厚度对显示器颜色的影响的颜色空间图。图10是示出了根据实施方案的可在形成防反射层时使用的设备的图示。图11是根据实施方案的通过对防反射层中的最上方的电介质层中的一个或多个电介质层进行电介质层厚度调整而形成防反射层中涉及的示例性步骤的流程图。图12是根据实施方案的通过对防反射层中的电介质层进行厚度调整而形成防反射层中涉及的示例性步骤的流程图。具体实施方式电子设备可具有显示器。可为显示器提供用于抑制光反射的防反射层。图1、图2、图3和图4中示出了可具有带有防反射涂层的显示器的类型的示例性电子设备。图1的电子设备10具有膝上型计算机的形状并具有上部外壳12A和带有部件诸如键盘16和触控板18的下部外壳12B。设备10具有铰链结构20(有时被称为联轴器管筒)，以允许上部外壳12A相对于下部外壳12B在方向22上围绕旋转轴24旋转。显示器14被安装在外壳12A中。上部外壳12A有时可被称为显示器外壳或盖，通过围绕旋转轴24朝下部外壳12B旋转该上部外壳12A而将其置于闭合位置。图2示出了基于手持设备诸如蜂窝电话、音乐播放器、游戏设备、导航单元或其他紧凑型设备的电子设备10的示例性配置。在设备10的该类配置中，外壳12具有相背对的前表面和后表面。显示器14被安装在外壳12的正面上。显示器14可具有外层，该外层包括针对部件诸如按钮26和扬声器端口28的开口。在图3的实施例中，电子设备10为平板电脑。在图3的电子设备10中，设备10具有相背对的平坦前表面和后表面。显示器14被安装在设备10的前表面上。如图3所示，显示器14可具有用于容纳按钮26的开口。图4示出了电子设备10的示例性配置，其中设备10为计算机显示器、具有集成式计算机显示器的计算机、或电视机。显示器14被安装在设备10的前表面上。在这种类型的布置中，设备10的外壳12可被安装在墙壁上或可具有可选的结构，诸如用于将设备10支撑在平坦表面诸如桌面或书桌上的支架30。显示器14可以是液晶显示器、有机发光二极管显示器、等离子体显示器、电泳显示器、电润湿显示器、使用其他类型显示技术的显示器或包括使用这些显示技术在多于一种显示技术形成的显示结构的显示器。图5中示出了示例性显示器的横截面侧视图。如图5所示，显示器14可具有显示层诸如显示层32。被包括在显示层32中的层的类型取决于形成显示器14时使用的技术的类型。例如，如果显示器14是液晶显示器，则层32可包括背光源、上偏振器和下偏振器以及滤色器层、液晶层、以及插置于上偏振器和下偏振器之间的薄膜晶体管层。在显示器14是有机发光二极管显示器的配置中，层32可包括层诸如基板层，在该层上形成发光二极管和薄膜晶体管电路的阵列。显示器14可包括可选的覆盖层诸如显示器覆盖层34。显示器覆盖层34可重叠显示器14中的其他层诸如显示层32，并可帮助在使用显示器14和设备10期间保护显示层32。显示器覆盖层34可由一片透明塑料、透明玻璃层、陶瓷层或其他透明层形成。显示器14可具有一层或多层防反射涂层。例如，显示器14可具有防反射层诸如层36。层36可形成于显示器14中的显示器基板的表面上。例如，层36可形成于显示器覆盖层34的上表面上或一个或多个其他显示层表面上(例如，显示层32的一个或多个表面上)。如果需要，可省去覆盖层34，并且滤色器层或显示层32中的其他层可充当显示器14的最外层并可利用层36进行涂布。在本文中有时描述显示器14的配置作为示例，在该配置中，防反射层36形成于显示器14的最外层上，诸如图5的示例性显示器覆盖层34上。然而，这仅仅是示例性的。防反射层36可形成于显示器14中的层的任何适当的表面上。图6是显示层64(例如，层34等)上的示例性防反射涂层的横截面侧视图。如图6所示，防反射层36可具有多个电介质层36L，诸如具有相应厚度T1、T2、T3、T4、T5、T6、T7、T8和T9的电介质层L1、L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8和L9。电介质层36L可具有交替的高折射率和低折射率。在形成层36L时可使用任何适当的电介质材料。例如，层36L可由电介质诸如氮化硅(折射率为1.75)和氧化硅(折射率为1.45)形成。该示例性配置中的氮化硅层形成与由氧化硅形成的“低”折射率层交替的“高”折射率层。在图6的布置中，例如，层L1、L3、L5、L7和L9可由氧化硅形成，并且层L2、L4、L6和L8可由氮化硅形成。如果需要，在形成高低介电堆叠或用于防反射涂层的其他电介质层时可使用其他类型的电介质。使用交替的氮化硅和氧化硅层来形成图6的防反射涂层36仅仅是示例性的。图7是诸如图6的层36的示例性防反射层的反射光谱的曲线图(反射率R被绘示为光波长的函数)。在图7的实施例中，在从380nm到780nm范围的可见波长上抑制反射。使用防反射涂层计算机模型，可针对防反射层36的电介质层36L来计算期望的厚度。在沉积电介质以形成防反射层36时，可将这些厚度值用作标称值。由于制造变化的原因，沉积层36L的实际厚度可稍微偏离其标称厚度。这些厚度变化影本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在显示层的表面上形成防反射涂层的方法，包括：在所述显示层的所述表面上沉积用于所述防反射涂层的电介质层；测量从所沉积的电介质层反射的光的光谱；以及至少部分地基于所测量的光谱来确定要针对用于所述防反射涂层的至少一个附加电介质层作出的至少一个电介质层厚度调整。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在显示层的表面上形成防反射涂层的方法，包括：在所述显示层的所述表面上沉积用于所述防反射涂层的电介质层；测量从所沉积的电介质层反射的光的光谱；以及至少部分地基于所测量的光谱来确定要针对用于所述防反射涂层的至少一个附加电介质层作出的至少一个电介质层厚度调整。2.根据权利要求1所述的方法，还包括：将所述至少一个电介质层沉积到已基于所述电介质层厚度调整而调整的厚度。3.根据权利要求2所述的方法，其中沉积所述电介质层包括沉积交替的高折射率的电介质层和低折射率的电介质层。4.根据权利要求3所述的方法，其中沉积所述电介质层包括沉积至少七个电介质层。5.根据权利要求4所述的方法，其中沉积所述至少一个电介质层包括在所述七个电介质层的顶部上沉积第八电介质层。6.一种在显示器基板的表面上形成防反射涂层的方法，其中所述防反射涂层包括多个电介质层，所述方法包括：在所述显示器基板的所述表面上沉积用于所述防反射涂层的所述多个电介质层的子集；测量从所述多个电介质层的所沉积的子集反射的光的光谱；以及在所述多个电介质层的所沉积的子集的顶部上沉积用于所述防反射涂层的其余两个电介质层。7.根据权利要求6所述的方法，其中沉积所述其余两个电介质层包括沉积具有基于所测量的光谱而调整的厚度的所述其余两个层。8.根据权利要求6所述的方法，其中沉积所述多个电介质层的所述子集包括沉积交替的高折射率的电介质层和低折射率的电介质层。9.根据权利要求6所述的方法，其中所述显示器基板包括电子设备显示器中的最外显示层，并且其中沉积所述多个电介质层的所述子集包括利用溅镀工具来沉积电介质。10.根据权利要求9所述的方法，其中所述最外显示层包括显示器覆盖层，并且其中沉积所述多个电介质层的所述子集包括沉积至少一个氧化硅层。11.根据权利要求9所述的方法，其中沉积所述多个电介质层的所述子集包括沉...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·多基戈托夫，陈宬，桑原正人，M·S·罗杰斯，J·Z·钟，
申请(专利权)人：苹果公司，
类型：发明
国别省市：美国;US