【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造
，具体地，涉及一种应用于半导体光刻装置的单倍放大倍率大视场投影物镜。
技术介绍
目前在半导体或液晶平板(FPDs)加工领域，单个纯透射系统的最大视场，受高均匀性的玻璃材料尺寸的限制很难做大，折返射或全反射系统在这方面的优势凸现出来。而且多个此类折返射或全反射镜头的拼接组合，就可以实现更大的曝光视场。美国专利US2004/0263429A1介绍了 一种平板显示(FPDs)用投影物镜，主要由一片反射主镜(可分为两部分)，一片反射次镜构成。专利的一个实施例中还包含两块玻璃平板，可以形成环状视场高度大于550mm，宽度大于10mm，放大倍率为-1倍，且其中大部分光焦度由两片反射镜承担，其加工的难度主要体现在大尺寸反射主镜上，使用这种结构反射主镜的口径要接近环状视场高度的3倍，即使反射主镜分为两部分制造，其口径也达到环状视场高度的1. 5倍左右。上述背景专利视场的增大仅仅依赖于反射镜尺寸的增大，即受加工制造能力的限制较大。而且随着物面尺寸的不断增大，物面自身的重力变形不可忽视，必须加以校正。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种投影物镜设...
【技术保护点】
一种大视场投影物镜，其特征在于投影物镜光学系统沿物面依次包括：由第一凹面反射镜和第一凸面反射镜组成的第一折返光路，一前透镜组，一中间像面，一后透镜组，以及由第二凸面反射镜和第二凹面反射镜组成的第二折返光路。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：武珩，黄玲，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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