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本发明提出一种大视场的对称式折反射光学系统，用于光刻曝光系统，沿光线传播方向依次包括：物面；第一反射镜；第一透镜组；一光阑；第二透镜组；第二反射镜；像面；其中，所述各光学元件在同一光轴上，且光阑前、后的光学系统相对于光阑对称。本发明的大视场...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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