【技术实现步骤摘要】
目标和多干扰模拟器光学系统
本专利技术属于光学系统干扰领域，具体涉及一种目标和多干扰模拟器光学系统。
技术介绍
目前，光学系统干扰多采用单光源或者双光源干扰模式，通过透射的方式来完成 光线的传播，其覆盖的波段窄，一般为单一波段，并且对设备的材料具有很高的要求；如果 采用透射式系统就要求光学材料可以透过从紫外到中波红外辐射，这些材料一般为晶体材 料(如SrF2、SAPHIRE、MgF2、LiF、CaF2等)材料种类非常少，在光学设计时不但要考虑到系 统的透过率还要考虑到系统的成像质量。而波段范围窄的光源只能模拟对应短波的干扰 弹，不具有通用性。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的问题，本专利技术提供了一种目标和多干扰模拟器光学系 统，该系统解决了体积大，覆盖波段窄，通用性差和选材困难的问题。本专利技术解决技术问题所采用的技术方案如下目标和多干扰模拟器光学系统，该系统包括目标光学系统、干扰光学系统、平面 反射镜和离轴双曲面反射镜；目标光学系统包括中红外光源、中继镜和转向反射镜；中红外光源发出光线，经 过转向反射镜和平面反射镜反射，成像在离轴双曲面反射镜的焦面上；干扰光...
【技术保护点】
目标和多干扰模拟器光学系统，其特征在于，该系统包括：目标光学系统、干扰光学系统、平面反射镜和离轴双曲面反射镜；所述目标光学系统包括：中红外光源、中继镜和转向反射镜；中红外光源发出光线，经过转向反射镜和平面反射镜反射，成像在离轴双曲面反射镜的焦面上；所述干扰光学系统包括：近红外及紫外光源、第二中红外光源、照明镜组、会聚反射镜和视场切分镜；近红外及紫外光源发出近红外或者紫外光线，与第二中红外光源一起，经过近红外及紫外照明镜组会聚和扩散后，由会聚反射镜反射到视场切分镜，成像在离轴双曲面反射镜的焦面上；所述目标光学系统的中红外光加上干扰光学系统的中红外光和近红外光一起或目标光学系统...
【技术特征摘要】
1.目标和多干扰模拟器光学系统，其特征在于，该系统包括目标光学系统、干扰光学系统、平面反射镜和离轴双曲面反射镜； 所述目标光学系统包括中红外光源、中继镜和转向反射镜；中红外光源发出光线，经过转向反射镜和平面反射镜反射，成像在离轴双曲面反射镜的焦面上； 所述干扰光学系统包括近红外及紫外光源、第二中红外光源、照明镜组、会聚反射镜和视场切分镜；近红外及紫外光源发出近红外或者紫外光线，与第二中红外光源一起，经过近红外及紫外照明镜组会聚和扩散后，由会聚反射镜反射到视场切分镜，成像在离轴双曲面反射镜的焦面上； 所述目标光学系统的中红外光加上干扰光学系统的中红外光和近红外光一起或目标光学系统中红外光加上干扰光学系统的中红外光和紫外光一起在离轴双曲面反射镜的焦面成像后，经由平面反射镜和离轴双曲面反射镜两次反射后，成像在无穷远。2.如权利要求1所述的目标和多...
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