感光性树脂组合物、以及使用了该组合物的涂膜和滤色器制造技术

技术编号:8531862 阅读:145 留言:0更新日期:2013-04-04 14:16
本发明专利技术提供微小线状图案的密合性优异的感光性树脂组合物、使用该感光性树脂组合物而形成的涂膜和滤色器。本发明专利技术的感光性树脂组合物含有:使通式(a-1)表示的树脂与单官能环氧化合物反应而得到的、酸值处于1~100mgKOH/g的范围的碱可溶性树脂(A),通式(b-1)表示的化合物(B),光聚合性单体(D),和光聚合引发剂(E)。式中,Ra1~Ra5、Y1、Y2、Rb1~Rb10各自独立地表示氢原子、有机基团等,P表示9,9-芴基等,X表示羧酸残基。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及感光性树脂组合物、以及使用该组合物而形成的涂膜和滤色器。
技术介绍
液晶面板或图像传感器等中使用的滤色器一般利用光刻法来制造。该光刻法中, 首先在基板上涂布黑色的感光性树脂组合物后,进行曝光、显影,形成黑矩阵。然后,通过将添加有绿、蓝、红的各色有机颜料的每种感光性树脂组合物反复进行涂布、曝光、显影,从而在规定的位置形成各色的图案,制造出滤色器。此时,对于感光性树脂组合物,要求透明性、耐热性、密合性等优异,因而提出了在成分中使用双酚型树脂。特别是在专利文献I中,报告有如下的感光性树脂组合物,即,通过使用使双酚型树脂再与单官能性环氧化合物反应而得到的、酸值处于I 100mgK0H/g的范围的碱可溶性树脂,从而除了高透明性、耐热黄变性以外,还可以形成良好的细线。专利文献专利文献1:日本特开2006-284784号公报
技术实现思路
近年来,为了确保产品的可靠性,在形成了微小图案的情况下也要求与基板密合这样的高密合性。上述专利文献I中所提出的感光性树脂组合物就微小线状图案的密合性而言并非为令人满意的物质。本专利技术是鉴于上述问题而完成的,其目的在于,提供在使用如上述专利文献I中提出的那样的碱可溶性树脂的同时,微小线状图案的密合性也优异的感光性树脂组合物。 另外,另一个目的在于,提供使用该感光性树脂组合物而形成的涂膜和滤色器。本专利技术人等为了达成上述目的而反复进行了深入研究,结果发现,通过将专利文献I中提出的树脂和特定的化合物作为感光性树脂组合物的成分,而可以解决上述问题, 从而完成了本专利技术。本专利技术的第一方式是一种感光性树脂组合物,其特征在于,含有使下式(a-Ι)表示的树脂与单官能环氧化合物反应而得到的、酸值处于I 100mgK0H/g的范围的碱可溶性树脂(A),下式(b-Ι)表示的化合物(B),光聚合性单体(D),和光聚合引发剂(E)。(式中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性树脂组合物,其特征在于,含有使下式(a?1)表示的树脂与单官能环氧化合物反应而得到的、酸值处于1~100mgKOH/g的范围的碱可溶性树脂A,下式(b?1)表示的化合物B,光聚合性单体D,和光聚合引发剂E,式中,Ra1、Ra2、Ra3、Ra4各自独立地表示氢原子、碳数1~5的烷基、卤素原子或苯基,Ra5表示氢原子或甲基;另外,P表示?CO?、?SO2?、?C(CF3)2?、?Si(CH3)2?、?CH2?、?C(CH3)2?、?O?、9,9?芴基或单键,X表示4价羧酸残基,Y1、Y2各自独立地表示氢原子或?OC?Q?(COOH)m,Q表示羧酸残基,m表示1~3的整数,n表示1~200的整数,式中,Rb1和Rb2各自独立地表示氢原子或有机基团;但是,Rb1和Rb2中的至少一个表示有机基团;Rb1和Rb2可以是它们键合而形成环状结构,也可以包含杂原子键;Rb3表示单键或有机基团;Rb4和Rb5各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、 硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸酯基、或有机基团;Rb6、Rb7、Rb8、和Rb9各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基、磺酸酯基、膦基、氧膦基、膦酰基、膦酸酯基、氨基、铵基、或有机基团;但是,没有Rb6和Rb7为羟基的情况;Rb6、Rb7、Rb8、和Rb9可以是它们中的2个以上键合而形成环状结构,也可以包含杂原子键;Rb10表示氢原子或有机基团。FDA00002181703500011.jpg,FDA00002181703500012.jpg...

【技术特征摘要】
2011.09.22 JP 2011-207899;2012.08.07 JP 2012-17481.一种感光性树脂组合物,其特征在于, 含有使下式(a-Ι)表示的树脂与单官能环氧化合物反应而得到的、酸值处于I 100mgK0H/g的范围的碱可溶性树脂A,下式(b_l)表示的化合物B,光聚合性单体D,和光聚合引发剂E,2.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:盐田大馆野功木下哲郎黑子麻祐美
申请(专利权)人:东京应化工业株式会社
类型:发明
国别省市:

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