一种基于紫外光的干式清洗方法技术

本发明专利技术公开了一种基于紫外光的干式清洗方法，特别涉及一种用于清洗TFT-LCD玻璃基板表面上有机污染物的紫外光清洗方法。将该干式清洗方法与湿式清洗方法这两种技术有效结合起来,TFT-LCD玻璃基板表面经过超声波清洗、高压水喷淋两种不同类型的湿式清洗后再对其表面进行基于紫外光的干式清洗，使其表面的附着粒子、有机污染物均被除去,洁净度达到原子级。该方法具有清洗效果好、速率快、绿色环保、无二次污染和均匀性好等特点。经过本发明专利技术清洗的TFT-LCD玻璃基板，成品率高和产品质量好，为玻璃基板的后续加工工艺流程奠定良好的基础。?

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及TFT-1XD薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-LiquidCrystal Display)领域，特别涉及一种用于清洗TFT-1XD玻璃基板表面上有机污染物的紫外光清洗方法。
技术介绍
众所周知，随着光电子产业的迅猛发展，清洗工艺在光电产品中是必不可少的工艺，清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要。在液晶显示器的生产过程中多次涉及清洗工艺，整个制备工艺中清洗工艺的工作量占总工作量的30%—40%，而且随着液晶显示技术的不断进步，对工件的表面洁净度要求极高。目前，精细洗净技术中主要有两种，一种是干式洗净技术，一种是湿式洗净技术。湿式洗净中又分为化学式洗净和物理式洗净。传统工艺中的化学清洗已经不能满足要求，湿式洗净技术的不足之处是在清洗过程中需要用到大量的纯水和有毒化学溶剂，易造成作业人员危害及环境污染的问题，所需要的高纯度化学药品及去离子水费用昂贵，也形成废水处理及安全问题。细微部的清洗困难，清洗效率降低。此外，湿式清洗的超纯水用量约占TFT-LCD玻璃基板加工厂超纯水用量的60%，利用干式清洗技术代替湿式清洗，则可节省许多经本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于紫外光的干式清洗方法，其特征在于：先利用超声波清洗、高压水喷淋湿式洗净方法除去玻璃基板表面的附着粒子；再对其进行基于紫外光的干式清洗；具体包括以下步骤：（A）超声波清洗，将待清洗的TFT?LCD玻璃基板经输入传送机传送到超声波清洗装置内，当玻璃基板从清洗槽中通过并在清洗液中浸泡时，玻璃基板上下表面同时被清洗；（B）高压水喷淋，使玻璃基板通过高压水喷淋装置，利用高压水泵把清洗用水加压到0.5MPa?1.5MPa，再通过喷嘴把高压低流速的水转化成低压高流速的水喷射到玻璃基板表面进行清洗；（C）气刀吹干，利用从夹缝中吹出的高速气体将玻璃基板表面的水分清除掉；?（D）红外烘干，采用红外干燥法对...

【技术特征摘要】
1.一种基于紫外光的干式清洗方法，其特征在于先利用超声波清洗、高压水喷淋湿式洗净方法除去玻璃基板表面的附着粒子；再对其进行基于紫外光的干式清洗；具体包括以下步骤(A)超声波清洗，将待清洗的TFT-LCD玻璃基板经输入传送机传送到超声波清洗装置内，当玻璃基板从清洗槽中通过并在清洗液中浸泡时，玻璃基板上下表面同时被清洗；(B)高压水喷淋，使玻璃基板通过高压水喷淋装置，利用高压水泵把清洗用水加压到O.5MPa-l. 5MPa，再通过喷嘴把高压低流速的水转化成低压高流速的水喷射到玻璃基板表面进行清洗；(C)气刀吹干，利用从夹缝中吹出的高速气体将玻璃基板表面的水分清除掉；(D)红外烘干，采用红外干燥法对TFT-1XD玻璃基板进行二次干燥，红外线照射玻璃基板，将气刀干燥时没有完全除去的残留水分彻底清除；(E)冷却，采用缓冲收纳装置对玻璃基板进行冷却； (F)基于紫外光干式清洗，清洗时使基板位于低压水银灯的下方，低压水银灯产生 253. 7nm和184. 9nm波长的紫外线同时照射玻璃基板；首先，在184. 9nm的紫外线作用下将空气中的游离氧元素生成臭氧；然后，在253. 7nm的紫外线作用下将空气中的臭氧分...

【专利技术属性】
技术研发人员：任乃飞，刘丹，吴迪富，任旭东，葛小兵，孙玉娟，孙兵，
申请(专利权)人：江苏宇迪光学股份有限公司，江苏大学，
类型：发明
国别省市：