一种空气调节监测系统技术方案

本发明专利技术公开了一种空气调节监测系统，应用于半导体清洗设备，该系统包括：主框架、风机机组、风机固定支架、均风装置、可调层流装置、气体压力传感器、静电阻抗器、静电监视器以及空气洁净度测试装置。本发明专利技术主要用于消除半导体清洗机内部环境中的各项污染源，使半导体清洗机内部始终处于恒定压力值的稳定层流环境，有效防止和去除空气中的颗粒和浮尘，方便地了解设备内部洁净度，并且有效消除设备内部产生的静电，从而大大降低了硅片受到致命缺陷污染的可能性，最终使芯片成品率增加，降低电子元器件的生产制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及超洁净系统
，具体涉及一种应用于半导体清洗设备内部的空气调节监测系统。
技术介绍
半导体清洗设备对内部环境的洁净度要求极高，然而由于受设备自身和设备周围环境影响，其内部总是不可避免的存在颗粒、金属杂质等污染源。同时在设备运行过程中，各运动部件的运动不可避免的产生摩擦，在相对湿度较低的硅片加工环境中，摩擦很容易产生高级别的静电荷，成为硅片表面的又一污染源。这些污染源能使硅片上的芯片电学失效，据统计80%的芯片报废是由污染引起。根据洁净区空气洁净度分级国际标准IS014644-1，一般半导体清洗设备内部空气洁净度要达到ISO Class 4以上的粒子最大浓度限值要求。为保证腔室的洁净度要求，现有技术通常采用风机产生的垂直层流，来消除空气中的浮尘、颗粒等，通过人工调整风速来保持环境的高洁净度。但是由于风机出风口仍会引入一定颗粒，并且当风速进风量和排风量相差过大时，腔室内的空气会产生紊流，因此现有技术仍存在缺陷。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术主要用于消除清洗机内部环境中的上述各项污染源，使半导体清洗机内部始终处于恒定压力值的稳定层流环境，有效防止和去除空气本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种空气调节监测系统，应用于半导体清洗设备，其特征在于，该系统包括：主框架；风机机组，位于所述设备顶部，用于产生层流风；风机固定支架，用于固定所述风机机组；均风装置，位于所述风机机组风向的下方，用于使风以层流形式吹向所述设备的内部；可调层流装置，位于所述设备底部，用于保证所述设备内部气流稳定；气体压力传感器，位于所述设备内部，用于检测所述设备内部的压力；静电阻抗器，固定于所述主框架上，用于消除所述设备内部的静电；静电监视器，安装在所述主框架上，用于检测所述设备内部静电消除的效果和所述静电阻抗器的工作情况；空气洁净度测试装置，安装在所述设备内部，用于对所述设备内部的洁净度进行周期性检测、判定洁净...

【技术特征摘要】
1.一种空气调节监测系统，应用于半导体清洗设备，其特征在于，该系统包括主框架；风机机组，位于所述设备顶部，用于产生层流风；风机固定支架，用于固定所述风机机组；均风装置，位于所述风机机组风向的下方，用于使风以层流形式吹向所述设备的内部;可调层流装置，位于所述设备底部，用于保证所述设备内部气流稳定；气体压力传感器，位于所述设备内部，用于检测所述设备内部的压力；静电阻抗器，固定于所述主框架上，用于消除所述设备内部的静电；静电监视器，安装在所述主框架上，用于检测所述设备内部静电消除的效果和所述静电阻抗器的工作情况；空气洁净度测试装置，安装在所述设备内部，用于对所述设备内部的洁净度进行周期性检测、判定洁净度级别、同时反馈检测数据。2.如权利要求1所述的系统，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙文婷，赵宏宇，裴立坤，高浩，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：