发光二极管封装结构的制造方法技术

技术编号:8490950 阅读:165 留言:0更新日期:2013-03-28 18:08
一种发光二极管封装结构的制造方法,包括以下步骤:步骤一,提供基板;步骤二,设置发光二极管芯片于基板上;步骤三,在基板上形成封装体,该封装体覆盖于发光二极管芯片之上;步骤四,利用工具将封装体的顶面平整为平面。采用本发明专利技术的发光二极管封装结构制造方法,利用工具将封装体的顶面平整为平面,保证了发光二极管封装结构的出光强度,进而有效提高制造发光二极管封装结构的良品率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种半导体发光元件,尤其涉及一种。
技术介绍
发光二极管凭借其高光效、低能耗、无污染等优点,已得到了广泛应用,大有取代传统光源的趋势。通常,在发光二极管封装结构的制造过程中,通过在发光二极管芯片上覆盖一封装体以保护该发光二极管芯片。一般通过点胶的方式将液态封装体注入到发光二极管芯片上,再通过挤压定型使封装体的顶面平整,而后使封装体凝固成型。然而,由于液态封装体凝固为固态封装体之后,封装体的顶面很可能会是向内凹陷的曲面,这与预先设定的平面有较大的偏差,并且还无法对其做出调整,导致发光二极管封装结构的出光效果不佳,良率下降。
技术实现思路
有鉴于此,有必要提供一种可提高发光二极管封装结构的良品率的制造方法。一种,包括以下步骤步骤一,提供基板;步骤二,设置发光二极管芯片于基板上;步骤三,在基板上形成封装体,该封装体覆盖于发光二极管芯片之上;步骤四,利用工具将封装体的顶面平整为平面。上述发光二极管封装结构制造方法中,通过工具将封装体的顶面研磨为平面,保证了发光二极管封装结构的出光效果,进而有效提高制造发光二极管封装结构的良品率。下面参照附图,结合具体实施例对本专利技术作进一步的描述。附图说明图1为本专利技术第一实施例的的流程图。图2示出了图1中的各步骤。图3为本专利技术的所得的发光二极管封装结构的剖面示意图。图4示出了本专利技术第二实施例的的各步骤。主要元件符号说明权利要求1.一种,包括以下步骤步骤一,提供基板;步骤二,设置发光二极管芯片于基板上;步骤三,在基板上形成封装体,该封装体覆盖于发光二极管芯片上;步骤四,利用工具将封装体的顶面平整为平面。2.如权利要求1所述的,其特征在于步骤三之前还包括在所述基板上形成有反射杯,该反射杯的中央形成容置部,所述发光二极管芯片容置于该容置部内。3.如权利要求2所述的,其特征在于所述封装体填充于所述容置部内。4.如权利要求3所述的,其特征在于所述封装体填满所述容置部,且该封装体的顶部高出所述反射杯。5.如权利要求4所述的,其特征在于平整后的封装体的顶面与反射杯的顶面齐平。6.如权利要求1所述的,其特征在于在步骤三之前, 还包括在所述基板两侧分别设置有挡板,所述挡板与基板共同围设成容置部,所述发光二极管芯片容置于该容置部内。7.如权利要求6所述的,其特征在于所述封装体填充于所述容置部内。8.如权利要求7所述的,其特征在于所述封装体填满所述容置部,且该封装体的顶部高出所述挡板。9.如权利要求8所述的,其特征在于平整后的封装体的顶面与挡板的顶面齐平。10.如权利要求1-9中任一项所述的,其特征在于所述步骤四为利用研磨工具将封装体的顶面研磨为平面。全文摘要一种,包括以下步骤步骤一,提供基板;步骤二,设置发光二极管芯片于基板上;步骤三,在基板上形成封装体,该封装体覆盖于发光二极管芯片之上;步骤四,利用工具将封装体的顶面平整为平面。采用本专利技术的发光二极管封装结构制造方法,利用工具将封装体的顶面平整为平面,保证了发光二极管封装结构的出光强度,进而有效提高制造发光二极管封装结构的良品率。文档编号H01L33/00GK103000768SQ20111026739公开日2013年3月27日 申请日期2011年9月9日 优先权日2011年9月9日专利技术者林新强, 曾文良 申请人:展晶科技(深圳)有限公司, 荣创能源科技股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光二极管封装结构的制造方法,包括以下步骤:步骤一,提供基板;步骤二,设置发光二极管芯片于基板上;步骤三,在基板上形成封装体,该封装体覆盖于发光二极管芯片上;步骤四,利用工具将封装体的顶面平整为平面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林新强曾文良
申请(专利权)人:展晶科技深圳有限公司荣创能源科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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