光敏CTP印版新型制作方法技术

本发明专利技术公开了一种光敏CTP印版新型制作方法，包括以下步骤：1）将印版放置到曝光机，受控激光光束将激光照射到需要曝光的版面位置上进行曝光；2）印版曝光完毕后，先对印版预加热；3）印版显影，显影后将空白部分冲洗掉，上胶保护；4）印版二次光聚合反应：将印版送入LED?UV曝光单元，连续曝光3min；5）取出印版，集版器把板放置好。所述步骤1）受控激光光束功率为15mw，所述步骤2）印版预加热的温度为110℃～115℃，所述步骤4）印版在曝光单元内连续曝光时间3min。通过增加印版二次光聚合反应工序，能够降低曝光工序的激光束功率，能够输出≤10μm的细线；分辨率高，清晰度高，提高了产品质量和耐印率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光敏CTP印版制作
，尤其涉及一种光敏CTP印版新型制作方法。
技术介绍
现有技术的印版曝光方法包括利用激光束曝光、预加热、显影成像、涂胶保护等工序。这种方法的缺陷是，光敏CTP版药膜面光敏材料曝光反应是一种光能量的积累，曝光时间越长印版上化学物质反应越充分，造成网点边缘模糊，不锐利，网点越大，反应到印刷品 上就是制版精度低。由于激光头到印刷版的距离较长，激光点发生变形，能量分布不均，造成曝光分辨率下降，阴线或字糊版。而要提高光敏CTP版的耐印率，必须增强版材药膜面中单体或齐聚物的聚合交联合反应，需要增加曝光时间和激光器的功率，但是这样就会影响制版精度，造成小字或细阴线糊版。为了提高制版精度，就要降低激光器曝光能量，减少曝光时间，但是会降低印版耐印率，增加生产成本，印版图文的稳定性降低。为解决提高制版精度和提高印版耐印率，降低印刷成本之间的矛盾，而进行本专利技术。通过此项专利技术技术的应用，一方面可以提闻制版精度，制版精度由15μηι提闻到了 10 μ m,同时印版的耐率提闻了80%，达到20万印。
技术实现思路
本专利技术的目的就是为了解决现有技术存在的上述问题和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光敏CTP印版新型制作方法，其特征是，包括以下步骤：1）将印版放置到曝光机，受控激光光束将激光照射到需要曝光的版面位置上进行曝光；2）印版曝光完毕后，对印版预加热；3）印版显影，显影后将空白部分冲洗掉，上胶保护；4）印版二次光聚合反应：将印版送入LED?UV曝光单元连续曝光；5）取出印版，集版器把板放置好。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱立和，王治国，赵公文，窦运玉，
申请(专利权)人：山东鲁信天一印务有限公司，
类型：发明
国别省市：