曝光装置制造方法及图纸

一种曝光装置，使工件在正交于工件面的方向、即Z方向移动时，修正起因于Z方向移动机构的直线度所产生的在与工件面平行的平面内的工件的移动。利用校准用显微镜来检测掩模的掩模标记像，并存储其位置。接着，将工件载置于吸附工作台，检测工件标记的位置，进行工件与掩模的对位，通过激光测长仪存储从滑块到反射镜的距离。接下来，为了进行曝光处理，通过Z方向移动机构使工件台下降工件的厚度量，并通过激光测长仪来测定从滑块到反射镜的距离。然后，根据上述距离来检测工件台的下降所引起的移动量，将工件回归到与掩模对位了的位置。在该状态下，从光射出部射出曝光光，对工件进行曝光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及曝光装置，更详细来说，涉及能够减小使移动台向相对于台面垂直的方向移动时所产生的、在移动台的台面上的位置偏移量的曝光装置。
技术介绍
曝光装置在印制电路板或液晶面板等(以下也称为工件)的制造工序中用于配线等的图案形成。在图6中示出上述曝光装置的结构例。图6所示的曝光装置，示出具备投影透镜、通过该投影透镜将掩模的图案投影到工件上来曝光的投影曝光装置，该图所示的装置示出如下投 影曝光装置在工件W的背面形成校准标记，将该工件背面的校准标记(以下称为工件标记WAM)与形成于掩模M的校准标记(以下称为掩模标记MAM)进行对位来进行曝光。作为这样的曝光装置，公知有专利文献I所记载的装置。这种曝光装置，主要具备光照射部10 ;形成曝光(转印)于工件的图案的掩模M ;保持该掩模的掩模台20 ;具备保持进行曝光处理的印制电路板或液晶面板等的工件W的吸附工作台33的工件台30 ;将形成于掩模M的图案投影到被保持于吸附工作台33的工件W上的投影透镜40。另外，作为将形成于掩模M的图案投影到被保持于工件台30的工件W上的投影构件，存在不使用透镜而使用镜的装置。光照射部10具备作为放射曝光光的光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，其特征在于，具备：光照射部，射出曝光光；掩模台，保持形成图案的掩模；移动台，保持工件，具备射出射入测长用激光的激光测长仪；移动台XYθ方向移动机构，使上述移动台在与上述掩模的图案被曝光的上述工件面平行的平面内移动；移动台Z方向移动机构，使上述移动台与上述移动台XYθ方向移动机构一起沿与上述工件面正交的方向移动；反射镜，反射来自设置在上述移动台上的激光测长仪的激光；以及控制部，基于通过由上述反射镜反射的激光射入上述激光测长仪而测长的从上述激光测长仪到上述反射镜的距离，通过上述移动台XYθ方向移动机构使上述移动台移动；上述反射镜固定于支承上述掩模台的构造体上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：杉山茂久，
申请(专利权)人：优志旺电机株式会社，
类型：发明
国别省市：