用于掩模对准的对准信号采集系统及对准方法技术方案

本发明专利技术公开一种用于掩模对准的信号采集与信号处理系统，其中信号采集系统包括：照明单元，用于提供一激光脉冲；掩模台单元；投影物镜，用以对该掩模标记成像；工件台单元；光强采集单元，用于采集该掩模标记的像扫描过该工件台标记时形成的二维空间像的光强信号；对准操作控制单元，用于接收并处理来自该掩模台单元、工件台单元及光强采集单元的信息以获得一对准位置。本发明专利技术提供的信号处理系统，是基于包含最大光强、水平向对准位置、垂向对准位置、二维空间像的像宽和像高等参量的拟合数学模型，运用麦夸托(Marquardt)迭代算法进行迭代拟合，求出对准位置、最大光强值、二维空间像的像宽和像高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及集成电路和/或其他微型器件制造领域的光刻装置，尤其涉及一种用于光刻设备的。
技术介绍
光刻机是集成电路加工过程中最为关键的设备。对准是光刻机的主要工艺流程之一，通过掩模、掩模台、硅片、硅片台上的特殊标记确定它们之间的相对位置关系，使掩模图形能够精确的成像于硅片上，实现套刻精度。套刻精度是投影光刻机的主要技术指标之一。 对准可分为掩模对准和硅片对准，掩模对准实现掩模与工件台的相对位置关系，硅片对准实现硅片与硅片台的相对位置关系。掩模与硅片之间的对准精度是影响套刻精度的关键因素。在掩模对准扫描过程中，掩模标记成像于硅片标记上，硅片标记下方的传感器检测光强信号。对光强信号进行一系列的数字信号处理，其光强最大值点，即对准点。其信号处理的时间直接影响着对准信号处理的实时性，从而直接影响光刻机的效率。在以往的掩模对准信号处理中，所用的空间像拟合模型是抛物面拟合，这种模型是理想的数学模型。在实际情况中，还有光学部分所引起的畸变。现有技术中CN200910201611.1给出了一种用于光刻装置的掩模对准系统。该专利中，采用了一维的光强位置高斯拟合数学模型。在这种情况下，只能求出水平向本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于掩模对准的对准信号采集系统，用以实现工件台相对于掩模台位置的确定，其特征在于，包括：照明单元，用于提供一激光脉冲；掩模台单元，所述掩模台单元包括：掩模台、掩模台位置测量模块及掩模台控制模块，所述掩模台控制模块根据所述掩模台位置测量模块所获得的掩模台位置数据移动位于所述掩模台上的掩模标记；投影物镜，用以对所述掩模标记成像；工件台单元，所述工件台单元包括：工件台、工件台位置测量模块及工件台控制模块，所述工件台控制模块根据所述工件台位置测量模块所获得的工件台位置数据移动位于所述工件台上的工件标记，并根据对准扫描参数进行水平及垂向运动；光强采集单元，用于采集所述掩模标记的像扫描过所述工件台标记...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈小娟，李运锋，赵正栋，赵新，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，上海微高精密机械工程有限公司，
类型：发明
国别省市：