用于光刻的1.5D SLM制造技术

本发明专利技术涉及一种改进的微光刻书写器，其在工件的表面上扫描调制图案。公开的SLM采用连续或准连续的辐射源工作在衍射模式中。微光刻书写器使用长且窄的SLM，并利用沿着SLM的窄轴的衍射效应来改进沿着该轴的书写特性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术要求于2010年3月5日提交的名称为“用于光刻的I. 5d SLM”的美国临时专利申请No. 61/311,280的优先权。本专利技术也涉及于2010年3月5日提交的名称为“具有可变速率像素时钟的转子成像系统(rotor imaging system)和方法”的美国专利申请No. 12/718895。公开的实施例反映了由全部为Micronic Laser AB (现在为Micronic MydataAB)工作的一组专利技术者所做的工作。从事该项目的所有专利技术者在将他们的专利技术转让给共同受让人时都负有责任。
技术介绍
本专利技术涉及一种改进的微光刻书写器(micro lithographic writer),其在整个工件表面上扫描调制图案。所公开的SLM使用连续或准连续的辐射源以衍射模式工作。微光刻书写器使用长且窄的SLM，并利用沿着SLM的窄轴的衍射效应来改进沿着该轴的书写特征。随着时间的流逝，用于微光刻的基于光学的系统已经变得越来越精密了。十多年前的系统依赖于扫描激光束，一般使用声光调制器调制该扫描激光束。在上个十年中，系统已经发展为在所谓的无掩模步进机中使用微反射本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：T桑德斯特洛姆，
申请(专利权)人：麦克罗尼克迈达塔有限责任公司，
类型：
国别省市：