下载用于光刻的1.5D SLM的技术资料

文档序号:8456816

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本发明涉及一种改进的微光刻书写器,其在工件的表面上扫描调制图案。公开的SLM采用连续或准连续的辐射源工作在衍射模式中。微光刻书写器使用长且窄的SLM,并利用沿着SLM的窄轴的衍射效应来改进沿着该轴的书写特性。...
该专利属于麦克罗尼克迈达塔有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过麦克罗尼克迈达塔有限责任公司授权不得商用。

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