探测板组的胶合方法和夹具技术

本发明专利技术公开了一种用于分步投影光刻机的探测板组的胶合方法，包括①建立超净工作室和超净工作台；②在超净工作台对符合要求的基准板保护玻璃用防静电光学玻璃擦拭布蘸上酒精进行擦拭；③将保护膜贴到镀膜探测基准板镀度膜表面；④将贴好镀的膜探测基准板和保护玻璃基准板胶合成防水探测板组，以及探测板组胶合夹具。本发明专利技术保证了在加工过程中镀膜标记区域接触不到污染源，减少报废率，加工的探测板符合分步投影光刻机高质量要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻机，特别是一种用于分步投影光刻机的探测板组的胶合方法和夹具，该探测板主要用于分步投影光刻机探测标记的位置对准，该向成果直接影响到分步投影光刻机里的娃片向位光栅自动对准。
技术介绍
目前欧美国家探测板加工的镀膜工序安排在零件加工之后，探测板加工没有对镀膜标记区域污染、胶合对零件加工形位的影响。基准面面形容易达到O. 003_，上下面平行度小于O. 006mm的要求。而国内加工探测板的板体需要采购国外镀膜后的标准板体,加工过程要求很高防污染处理，使得加工成品率低风险大，远远不能满足90nm光刻机的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于分步投影光刻机的探测板组的胶合方法和夹具，对镀膜标记区域基准面进行防污染胶合保护，加工基准面面形优于O. 003_，上下面平行度小于O. 006mm,使之符合光刻机向位光栅自动对准要求。本专利技术的技术解决方案如下 一种用于分步投影光刻机的探测板组的胶合方法，其特征在于，该方法包括下列步骤 ①建立超净工作室和超净工作台，室内温度为20 26°C±0. 1°C，湿度为50 70%标准大气压下超净工作台上进行探测板保护膜和测板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于分步投影光刻机的探测板组的胶合方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：①建立超净工作室和超净工作台，室内温度为20～26℃±0.1℃，湿度为50～70%标准大气压下超净工作台上进行探测板保护膜和探测板组的胶合工作；②在超净工作台，工作人员带上防静电手套和口罩,?用防静电光学玻璃擦拭布蘸上酒精对基准板保护玻璃（6）进行擦拭，在擦拭过程中把镀膜探侧基准板（7）和基准板保护玻璃（6）放在100w的灯光下仔细观看表面灰尘，直到无人眼可见灰尘，把镀膜探侧基准板（7）和擦拭好的基准板保护玻璃（6）放在玻璃器皿中，防止再次污染；③从所述的玻璃器皿中取出镀膜探侧基准板（7）水平放到工作台面上，镀膜探侧基...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄克飞，魏向荣，顾亚平，
申请(专利权)人：上海现代先进超精密制造中心有限公司，
类型：发明
国别省市：