用于光刻的组合物和方法技术

本发明专利技术提供了一种涂敷过的基片和一种处理光刻胶组合物的方法。所述涂敷过的基片包括：位于基片上的光刻胶组合物层；位于该光刻胶层上面的有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂；所述处理光刻胶组合物的方法包括：(a)在基片上施涂光刻胶组合物；(b)在所述光刻胶组合物上面施涂有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂；(c)将所述光刻胶层曝光于辐射，活化光刻胶组合物。

【技术实现步骤摘要】
本申请是申请人于2007年3月12日提交的申请号为200710087658.0、专利技术名称为“用于光刻的组合物和方法”的专利技术专利申请的分案申请。相关申请交叉引用本申请要求2006年3月10日提交的美国临时申请第60/781455号的优先权，该专利申请全文参考结合入本文中。
本专利技术涉及施涂在用于浸渍光刻法(Immersion lithography)中的光刻胶组合物上面的外涂(overcoating)层组合物。
技术介绍
光刻胶是用来将图像转移到基片的光敏薄膜。在基片上形成光刻胶涂层，然后将光刻胶层透过光掩模在活化辐射源下曝光。该光掩模具有对活化辐射为不透明的区域和对活化辐射为透明的其它区域。在活化辐射下曝射使光刻胶涂层发生光致的化学变化，从而将光掩模的图案转移到光刻胶涂布的基片上。曝射之后，对光刻胶进行显影，产生允许对基片进行选择性处理的浮雕图像。半导体工业的增长由Moore定理所推动，该定理指出IC器件的复杂程度平均每两年便会翻一番。这使得人们需要通过光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷过的基片，该基片包括：位于基片上的光刻胶组合物层；位于该光刻胶层上面的有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂。

【技术特征摘要】
2006.03.10 US 60/781,4551.一种涂敷过的基片，该基片包括：
位于基片上的光刻胶组合物层；
位于该光刻胶层上面的有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水
基团的共聚物树脂。
2.一种涂敷过的基片，该基片包括：
位于基片上的光刻胶组合物层；
位于该光刻胶层上面的有机组合物，所述组合物包含(i)第一树脂，(ii)不同
于所述第一树脂的第二树脂，所述第一树脂和第二树脂中的至少一种包含一种
或多种亲水基团。
3.如权利要求1或2所述的基片，其特征在于，所述光刻胶层上面的组合
物中的树脂包含对光生酸不稳定的基团。
4.如权利要求1至3中任一项所述的基片，其特征在于，所述光刻胶层上
面的组合物中的树脂包含一种或多种以下基团：酯基、缩醛基、醚基、羟基或
羧基。
5.如权利要求1至4中任一项所述的基片，其特征在于，所述光刻胶层上
面的组合物包含一种或多种生酸剂化合物。
6.一种处理光刻胶组合物的方法，该方法包括：
(a)在基片上施涂光刻胶组合...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·K·噶拉格尔，D·王，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US