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用于光刻的组合物和方法技术
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文档序号:11133064
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本发明提供了一种涂敷过的基片和一种处理光刻胶组合物的方法。所述涂敷过的基片包括:位于基片上的光刻胶组合物层;位于该光刻胶层上面的有机组合物,该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂;所述处理光刻胶组合物的方法包括:(a)在基片上施...
该专利属于罗门哈斯电子材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过罗门哈斯电子材料有限公司授权不得商用。
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