基板处理装置以及处理液赋予方法制造方法及图纸

技术编号:8482955 阅读:161 留言:0更新日期:2013-03-28 01:59
本发明专利技术提供一种能够抑制从移动的喷嘴喷出的处理液的流量发生变动的技术。基板处理装置具有:基板保持部,其将基板保持为大致水平;主扫描机构,其具有沿着大致平行于基板的主扫描方向延伸的主扫描机构引导部、被主扫描机构引导部支撑且能够沿着主扫描方向移动的滑块;喷出部,其被滑块支撑且能够沿着主扫描方向移动,并用于向基板喷出涂敷液;挠性的涂敷液配管,其与喷出部连接且向喷出部引导涂敷液;可动配管支撑部,其支撑涂敷液配管的非端部部分,并且可动配管支撑部的朝向随着主扫描的反复进行引起的滑块周期性运动而周期性地变化。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于保持对半导体晶片、液晶显不装置用玻璃基板、F1DP (PlasmaDisplay Panel :等离子显示板)用玻璃基板、有机EL显示板用玻璃基板、太阳能电池用基板、磁盘或光盘用的玻璃或陶瓷基板等各种被处理基板涂敷的处理液的流量的稳定性的技术。
技术介绍
以往公知有如下技术,即,喷嘴一边扫描表面排列有分隔壁的基板的表面一边作为涂敷液涂敷有机EL那样的像素形成材料。此时,具有挠性的配管与进行扫描移动的喷嘴连接,从喷嘴喷出在配管中流动的涂敷液。作为这样的技术,例如,在专利文献I中公开了一种涂敷装置,该涂敷装置具有 引导部,其沿着主扫描方向延伸;滑块,在其与引导部之间存在空气层的状态下被引导部支撑,并能够沿着主扫描方向移动;喷嘴,其被滑块支撑,用于喷出涂敷液;配管支撑构件,其支撑与滑块以及喷嘴连接的配管的非端部部分。另外,在专利文献2中公开了一种涂敷装置,该涂敷装置具有与引导部卡合且被支撑为能够在主扫描方向上移动的滑块、被滑块支撑的喷嘴,用于向滑块及喷嘴引导流体的多个配管隔着引导部的轴分开设置在喷嘴及滑块的两侧。专利文献I JP特开2011-072974号公报。专利文献本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置,其特征在于,具有:基板保持部,其将基板保持为大致水平,主扫描机构,其具有沿着大致平行于所述基板的主扫描方向延伸的引导部、被所述引导部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动的移动部,喷出部,其被所述移动部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动,并用于向所述基板喷出处理液,挠性的配管,其与所述喷出部连接,并用于向所述喷出部引导处理液,可动配管支撑部,其用于支撑所述配管的非端部部分,并且该可动配管支撑部的朝向随着所述移动部的周期性运动而周期性地变化,所述移动部的周期性运动是因主扫描的反复进行而引起的。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:大宅宗明高村幸宏相良秀一伊藤隆介
申请(专利权)人:大日本网屏制造株式会社
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1