采用连续多弧离子镀物理气相沉积制备Fe - 5.5～6.5 wt.% Si - 0.3～1.0wt.% Al 合金薄板的方法技术

本发明专利技术涉及一种制备Fe-Si薄板的方法，更特别地说，是指一采用连续多弧离子镀物理气相沉积法制备高质量的Fe-5.5～6.5wt.%Si-0.3～1.0wt.%Al合金薄板的方法。一种采用连续多弧离子镀物理气相沉积制备Fe-5.5～6.5wt.%Si-0.3～1.0wt.%Al合金薄板的方法，是以熔铸硅铝合金靶为阴极，以低硅钢带为阳极，采用多弧离子镀物理气相沉积法在低硅钢带单面或双面沉积结合良好的富Si硅铝膜；然后进行高温扩散处理，使Si、Al原子向内扩散渗入低硅钢基体，直到钢带中的含Si量达到5.5～6.5wt.%，含Al量达到0.3～1.0wt.%，获得具有优异软磁性能的高硅钢带材，满足高性能铁芯材料使用需求。本发明专利技术的方法沉积速率快、工作效率高，制备过程质量可控、节能环保无污染，因此极其适合工业化应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种制备Fe-Si薄板的方法，更特别地说，是指一采用连续多弧离子镀物理气相沉积法制备高性能的Fe-5. 5 6. 5wt. %Si_0. 3 I. Owt. %A1合金薄板的方法。
技术介绍
目前，国际上关于Fe-6. 5wt%Si薄板基本上采用化学气相沉积方法与轧制法制备。化学气相沉积方法是在真空室中弓I入硅烷气体，通过加热使硅烷气体分解后，在进行了适当前处理的硅钢板上沉积一定量的硅；然后再通过热处理，获得均匀的Fe-6. 5wt%Si薄板。轧制法则是直接对Fe-6. 5wt%Si的铸锭进行热、冷多次轧制，获得所需厚度的薄板。由于Fe-6. 5wt%Si自身的脆性以及轧制工艺上的限制，轧制法制备的Fe-6. 5wt%Si薄板厚度一般很难低于O. 30mm，且成本较高。因此，目前商品化的Fe_6. 5wt%Si薄板基本上采用化学气相沉积方法制备，其厚度一般为O. 10 O. 35mm。化学气相沉积方法制备的Fe-6. 5wt%Si薄板具有成本低、厚度可达O. 10mm、适用于批量化生产等特点，但也存在有表面质量差、易引入杂质而降低磁性能、设备寿命低、需要环保处理等问题本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用连续多弧离子镀物理气相沉积制备Fe?5.5～6.5wt.%Si?0.3～1.0wt.%Al合金薄板的方法，其特征在于步骤为：（1）．选取厚度为0.1～0.35mm的低硅钢带作基板，并做以下预处理：用4～8%稀盐酸清洗3～8分钟，去除锈迹；然后使用浓度3～5%、温度60～80℃碳酸钠碱液清洗，去除油迹；清水漂洗；使用无水乙醇超声波清洗，吹干待用；（2）．选取硅铝合金靶材：熔铸硅铝合金靶材，其中Si?8～20%Al，待用；（3）.将经步骤（1）处理后的低硅钢带安装在多弧离子镀设备的基片台上作为阳极；再将步骤（2）的硅铝合金靶装入多弧离子镀弧头之中，作为阴极；抽真空度至2×10?3～8×10...

【技术特征摘要】
1.一种采用连续多弧离子镀物理气相沉积制备Fe-5. 5 6. 5wt. %Si_0. 3 I.Owt. %A1合金薄板的方法,其特征在于步骤为 (1).选取厚度为O.I O. 35mm的低娃钢带作基板,并做以下预处理用4 8%稀盐酸清洗3 8分钟，去除锈迹；然后使用浓度3 5%、温度60 80°C碳酸钠碱液清洗，去除油迹；清水漂洗；使用无水乙醇超声波清洗，吹干待用； (2).选取硅铝合金靶材熔铸080 0100mm X 35 50 mm硅铝合金靶材，其中Si-8 20%A1，待用； (3).将经步骤(I)处理后的低硅钢带安装在多弧离子镀设备的基片台上作为阳极；再将步骤(2)的硅铝合金靶装入多弧离子镀弧头之中，作为阴极； 抽真空度至2X 10_3 8X 10_4Pa后，通入氩气使多弧离子镀中的压力稳定在O. 2 O.8Pa范围； 调节多弧离子镀共沉积条件 预热低硅钢带至200°C 500°C ； 放电电压15V 20V、电流50A 80A、沉积速率为3 5 μ m/min ； 在该条件下进行低硅钢带表面硅铝薄膜沉积，沉积时间5 15分...

【专利技术属性】
技术研发人员：田广科，范多旺，孔令刚，马海林，范多进，
申请(专利权)人：兰州大成科技股份有限公司，兰州交大国家绿色镀膜工程中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：