共轭聚电解质光电材料及其在聚合物发光二极管中的应用制造技术

技术编号:8448343 阅读:194 留言:0更新日期:2013-03-21 01:09
本发明专利技术公开了一种共轭聚电解质光电材料,及其在聚合物发光二极管器件中的应用。本发明专利技术所述共轭聚电解质光电材料的侧链带有季铵盐极性基团,使得这种材料能够溶于极性溶剂如甲醇、乙醇中,且又难溶于甲苯等溶剂。所述共轭聚电解质光电材料能够作为空穴注入层材料用于聚合物发光二极管器件中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机半导体光电材料领域,尤其涉及一种共轭聚电解质光电材料,及其在聚合物发光二极管器件的空穴注入层中的应用。
技术介绍
如图I所示,聚合物发光二极管器件主要由阴极I、发光层2、空穴注入层(HIL)3、阳极4、衬底5顺次层叠构成,电源6连接阴极I与阳极4。所述发光层2为有机聚合物材料。制备聚合物发光二极管时,通常是在衬底5上先设置氧化铟锡(ITO)作为阳极4,然后在ITO阳极4上设置空穴注入层(HIL)3,接着在空穴注入层3上设置发光层2,最后在发光层2上再蒸镀金属阴极1,例如依次真空蒸镀一层CsF和一层金属Al共同作为阴极I。设置发光层2的方法通常利用旋涂法,具体做法是将有机发光材料溶解在甲苯等溶剂中制得有机发光材料溶液,然后将有机发光材料溶液旋转涂覆在空穴注入层3上,为了避免有机发光材料溶液中的甲苯等溶剂将空穴注入层3溶解或侵蚀,从而影响聚合物发光二极管器件的工作效果,所以只能选用不溶或难溶于甲苯等溶剂的有机材料作为空穴注入层3的材料。目前,可选择的空穴注入层有机材料很少,常用的空穴注入层材料主要有两种,一种是聚(3,4-乙撑二氧噻吩)和聚苯乙烯磺酸盐的混合物水溶液(PED0T:PSS),另一种是聚乙烯基咔唑(PVK)。其中又以PEDOT: PSS最为常用,但是PEDOT: PSS其实是一种酸性溶液,对ITO阳极有一定的腐蚀作用,所以采用PED0T:PSS作为空穴注入层会降低聚合物发光二极管器件的寿命和稳定性。而由于PVK是一种主链非共轭的聚合物,其电导率并不高,所以PVK的空穴注入/传输性能并不太好,这也是影响聚合物发光二极管器件性能的不利因素之一 O
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种能够作为聚合物发光二极管器件的空穴注入层材料的共轭聚电解质光电材料。本专利技术的技术解决方案是一种共轭聚电解质光电材料,结构式为本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种共轭聚电解质光电材料,其特征在于结构式为:?????????????????????????????????????????????????????????????其中,0

【技术特征摘要】
1.一种共轭聚电解质光电材料,其特征在于结构式为2.根据权利要求1所述的共轭聚电解质光电材料,其特征在于,所述1 1、1 2...

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:东莞市后博科技服务有限公司
类型:发明
国别省市:

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