一种硫掺杂硅纳米颗粒的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种硫掺杂硅纳米颗粒的制备方法。将选取的并清洗干净的硅片置于加工腔内，经过飞秒激光在六氟化硫(SF6)气体中辐照硅片制备硫掺杂硅样品和飞秒激光辐照硫掺杂硅样品制备硫掺杂硅纳米颗粒两大步骤，制备出球形粒径范围为1-500nm的硫掺杂硅纳米颗粒，掺杂浓度为1×1019/cm3～1×1021/cm3。本发明专利技术能够快速的制备硫掺杂硅纳米颗粒，掺杂浓度高，而且能够通过控制入射激光能量和辐照时间的方法，控制颗粒的粒径和颗粒量。解决了通常制造硅纳米颗粒速度慢、工艺过程复杂、成本高的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及材料制备领域，具体涉及。
技术介绍
纳米颗粒具有表面效应、量子限域效应、宏观量子隧道效应和量子尺寸效应等特性。有较大的比表面积、活跃的化学性质，能够产生带隙的蓝移。在光伏太阳能、光催化、生物医学等诸多领域有广泛的应用前景。传统上，硅纳米颗粒多指纯硅颗粒，很少有人专注掺杂娃纳米颗粒。 1999年，美国哈弗大学Mazur等人，在SF6气氛中用飞秒激光辐照硅表面，制作出了一种新型材料——黑硅。在飞秒激光烧蚀和SF6在强电场下解离并与硅产生化学反应的双重作用下，硅表面会诱导出锥状结构，表面呈黑色，具有从可见光到近红外的广谱吸收能力，且吸收效率极高。尤其引人注意的是，即便在能量小于硅带隙宽度的近红外波段(1100nm-2000nm)，吸收效率也能达到90%以上。经过大量的实验表明，这种奇特的吸收能力与黑硅材料两方面性质有关，其一是硅表面锥状减反结构，能有效低将入射光波限制在这种结构中，多次反射，增加吸收概率，其二，是表面过饱和硫元素掺杂，硫原子以替位式掺杂代替了硅原子，并形成杂质能带，这使得黑硅能对近红外光也产生强烈的吸收，拓展了太阳光谱的利用范围。因此，硫掺杂硅是一个极具应用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硫掺杂硅纳米颗粒的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)飞秒激光在六氟化硫(SF6)气体中辐照硅片制备硫掺杂硅样品；(2)飞秒激光辐照硫掺杂硅样品制备硫掺杂硅纳米颗粒。

【技术特征摘要】
1.一种硫掺杂硅纳米颗粒的制备方法，其特征在于包括以下步骤 (1)飞秒激光在TK氣化硫(SF6)气体中福照娃片制备硫惨杂娃样品； (2)飞秒激光福照硫惨杂娃样品制备硫惨杂娃纳米颗粒。2.如权利要求I所述的制备方法，步骤[I]中所描述的制备硫掺杂硅样品的具体方法为 (1)选取娃片，娃片电阻率可以为但不限于0.001 2000 Q *cm,娃片的掺杂类型(n型或者P型)、晶向、大小不限，根据实际情况选取，硅表面的颜色为银灰色或者银色； (2)将清洗干净的硅片放入加工腔内，固定在样品架上，使得能够入射激光垂直辐照在样品表面上； (3)抽真空，真空度为10_2-10_5Pa，再通入气压范围为小于I个标准大气压的SF6，反复2-3 次； (4)飞秒光辐照固定在样品架上的硅片，飞秒激光的波长为紫外至近红外，脉宽可以为5fs-500fs，飞秒激光通量为lkj/m2-100kj/m2 ;样品架通过强磁铁牢固的吸附在一个二维移动台上，可以在移动平台的驱动下在垂直于激光入射方向上的二维平面内任意移动，设定移动平台的速度保证飞秒激光辐照硅样品时，样品表面单位面积上能够接受到1-5000个脉冲辐照，所谓单位面积在这里是指飞秒激光辐照硅样品表面时，单个脉冲投影到样品表面上的面积； (5)加工完成后，抽走加工腔中的六氟化硫气体，通入氮气或者空气，使得加工腔内气压达到一个标准大气压，将在六氟化硫气氛中，经过飞秒激光辐照后的硅片从加工腔中取出，此时被辐照过...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴强，杨明，左一平，陈战东，姚江宏，孔勇发，唐柏权，许京军，
申请(专利权)人：南开大学，
类型：发明
国别省市：