【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种微波辅助降解硅纳米线制备硅纳米颗粒的方法，包括以下步骤：a、氟化氢辅助刻蚀制备硅纳米线：将硅晶片置于丙酮溶液中超声，用超纯水清洗多次后，放入浓硫酸或浓硝酸和5vol%～30vol%双氧水混合溶液中除去表面的污染杂质，再用超纯水清洗多次，得到干净的硅晶片；将清洗干净的硅晶片置入5vol%～40vol%氟化氢溶液中进行硅？氢化反应，得到表面覆盖大量硅？氢键（Si？H）的硅晶片；将经过上述处理后所得到的硅晶片放入0.1M～1M的硝酸银或氯金酸和10vol%～40vol%氟化氢的混合溶液中，缓慢振荡一定时间，取出后再放入10vol%氟化氢和1vol%双氧水混合溶液中反应，得到硅纳米线阵列；利用超声将硅纳米线从硅片中超声下来，通过离心将硅纳米线进行收集，分散于超纯水中，得硅纳米线前体溶液；b、微波辐射制备硅纳米颗粒：将步骤a所得的硅纳米线溶于去离子水中，在微波辐射加热环境下，硅纳米线断裂成硅纳米颗粒。
【技术特征摘要】
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