一种水溶性纳米硅粒子及其制备方法技术

技术编号:8382998 阅读:230 留言:0更新日期:2013-03-06 23:56
本发明专利技术公开了一种水溶性纳米硅粒子的制备方法,所述的制备方法包括以下步骤:先以单晶硅片为基础,通过电化学腐蚀的方法,在电流密度为50-400mA/cm2下,得到多孔硅片;然后将多孔硅在有机溶剂中混合,用功率为500-700W的超声波混浴0.5-1h,然后紫外光的照射下充分反应;最后经滤纸过滤,16000-20000r/min离心分离,0.8-1Pa下抽干,得水溶性纳米硅粒子。本发明专利技术克服普通纳米硅粒子水溶性差的缺陷,提高纳米硅粒子的亲水性效果,可用于生物医学成像,药物示踪、太阳能光板等领域。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种水溶性纳米硅粒子的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)以单晶硅片为基础,通过电化学腐蚀的方法,在电流密度为50?400mA/cm2下,得到多孔硅片;(2)将多孔硅在有机溶剂中混合,用功率为500?700W的超声波混浴0.5?1h,然后紫外光的照射下充分反应;(3)最后经滤纸过滤,16000?20000r/min离心分离,0.8?1pa下抽干,得水溶性纳米硅粒子。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:巢毅敏
申请(专利权)人:常州诺瑞格纳米科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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