光固化性压印用组合物以及使用该组合物的图案的形成方法技术

本发明专利技术提供不论聚合性单体的种类、图案的转印性好、与模具（图案形成面）的剥离性好、因而能够形成再现性优异的形状图案的光固化性压印用组合物；以及使用该组合物的采用光压印在基板上形成图案的方法。光固化性压印用组合物含有下述物质而成：具有（甲基）丙烯酰基的聚合性单体（A）、光聚合引发剂（B）以及具有（甲基）丙烯酰基的聚合性单体聚合得到的超支化聚合物（C）。相对于100质量份的聚合性单体（A），该组合物优选含有0.1~10质量份的光聚合引发剂（B）、0.1~10质量份的超支化聚合物（C）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本 专利技术涉及新型的光固化性压印用组合物，还进一步涉及使用所述光固化性压印用组合物在基板上形成图案的新型的图案形成方法。
技术介绍
近年来，要求半导体集成电路更微细化、高精度，这样的微细的高精度的半导体集成电路一般采用压印技术来制造。压印技术利用了下述技术通过将具有与想在基板上形成的图案对应的图案凹凸的模具模压在基板表面形成的涂膜上，使期望的图案转印到该基板表面的技术，通过使用该技术，可以形成纳米级别的微细图案。压印技术之中，尤其是形成数百 数纳米(nm)的超微细图案的技术被称为纳米压印技术。关于该压印技术，其方法根据形成于基板表面的涂膜材料的特性被区分为2类。其一是通过将需要转印图案的涂膜材料加热赋予可塑性后，按压模具，进行冷却，使涂膜材料固化，从而转印图案的方法。另外，另一类是通过模具或基板的至少一者使用透光性的材质，在基板上涂布液态的光固化性组合物形成涂膜，按压模具即而与涂膜接触，接着，隔着模具或基板照射光使该涂膜材料固化，从而转印图案的方法。这些之中，采用光照射转印图案的光压印的方法由于能够形成高精度的图案，所以在纳米压印技术中被广泛利用，并且进行了大量适用于该方法的光固本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅川秀喜，川端雄一郎，
申请(专利权)人：株式会社德山，
类型：
国别省市：