本发明专利技术实施例公开了一种显示基板的APP处理装置，属于显示技术领域。解决了现有的APP处理装置难以使等离子体在玻璃基板上均匀分布的技术问题。该APP处理装置，用于对显示基板进行APP处理，包括射频发生器和相对竖直放置的两个电极板；其中，一个电极板的内表面为平面，另一个电极板的内表面为阶梯面，使所述两个电极板之间形成上窄下宽的缝隙，并在所述缝隙内产生等离子体；所述射频发生器与所述两个电极板相连接，向所述两个电极板施加射频信号。本发明专利技术应用于玻璃基板的APP处理。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于显示
，具体涉及一种显示基板的大气压等离子体处理装置。
技术介绍
随着显示技术的不断发展,液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)已在平板显示领域中占据了主导地位。在液晶显示器的制造过程中，需要提高光刻胶与非金属膜之间的粘附性，所以在玻璃基板(也可以是其他材料的显示基板)上涂敷光刻胶之前利用大气压等离子体(Atmospheric-Pressure Plasma, APP)处理装置对玻璃基板进行表面处理。目前的APP处理装置大部分采用介质阻挡放电方式。具体是在上、下两个电极板之间放置一层或多层绝缘介质，当两个电极板上施加了足够高的交流电压时，两个电极板之间的气体就会被击穿而产生介质阻挡放电。绝缘介质的存在避免了两电极之间直流击穿·放电的形成，如弧光或者火花放电，使两个电极板之间得到空间上分布相对较均匀的气体放电，形成等离子体。但是，这种放电方式是由大量的快速脉冲放电通道构成的，且较难在两个电极板之间均匀分布。现在的生产线中，在APP处理装置的下电极板上设置了许多通孔，这样等离子体可以透过这些通孔，对下电极板下方的玻璃基板进行表面处理。但是这种结构也不能保证等离子体在玻璃基板上均匀分布，玻璃基板上对应通孔位置的等离子体的密度较高，而对应通孔间隔位置的等离子体的密度较低；而且每个通孔中漏出的等离子体也不是等量的。因此，现有的APP处理装置难以使等离子体在玻璃基板上均匀分布，导致涂覆在玻璃基板上的光刻胶发生部分脱落，影响产品的良品率。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种显示基板的大气压等离子体(APP)处理装置，解决了现有的APP处理装置难以使等离子体在玻璃基板上均匀分布的技术问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案一种显示基板的APP处理装置，用于对显示基板进行APP处理，包括射频发生器和相对竖直放置的两个电极板；其中，一个电极板的内表面为平面，另一个电极板的内表面为阶梯面，使所述两个电极板之间形成上窄下宽的缝隙，并在所述缝隙内产生等离子体；所述射频发生器与所述两个电极板相连接，向所述两个电极板施加射频信号。与现有技术相比，本专利技术所提供的上述技术方案具有如下优点由于两个电极板中有一个电极板的内表面为阶梯面，当射频发生器在两个电极板之间施加射频(电场)信号时，该阶梯面拐角处的凸角由于电场较强，而与其相对的电极板是平面，该凸角部分会产生电晕或者辉光放电，从而达到起辉放电的效果，之后随着射频发生器功率的增加便会在两个电极板之间形成大面积稳定的辉光放电。因为两个电极板之间的缝隙存在窄缝和宽缝两个部分，缝隙内气体的流动会使这两个部分产生一定的气压差，使得放电只发生在两个电极板之间气压较高的宽缝部分，即在宽缝部分产生射频容性耦合等离子体。基板经过两个电极板下方时，该缝隙中的射频容性耦合等离子体就能够对基板进行表面处理。射频容性耦合等离子体是一种均匀、稳定的辉光放电等离子体，并且该等离子体可以从缝隙中直接涂布到基板表面，使等离子体能够与基板的表面充分均匀接触。因此，本专利技术提供的APP处理装置能够使等离子体在基板上均匀分布，从而有效避免了之后涂敷在基板上的光刻I父发生部分不定性脱落，提闻了广品的良品率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以 根据这些附图获得其他的附图。图I为本专利技术的实施例I所提供的显示基板的APP处理装置的结构示意图；图2为本专利技术的实施例2所提供的显示基板的APP处理装置的结构示意图；图3为本专利技术的实施例2所提供的显示基板的APP处理装置的正面结构示意图；图4为本专利技术的实施例2所提供的显示基板的APP处理装置中缝隙尺寸的示意图；图5为本专利技术的实施例2所提供的显示基板的APP处理装置中绝缘材料上开设的窗口的示意图。具体实施例方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例I :如图I所示，本专利技术实施例所提供的显示基板的大气压等离子体(APP)处理装置，用于对显示基板进行APP处理，本实施例中用于对玻璃基板31进行APP处理。该APP处理装置包括射频发生器21和相对竖直放置的两个电极板11、12 ;其中，后电极板12的内表面为平面，前电极板11的内表面为阶梯面，使两个电极板11、12之间形成上窄下宽的缝隙13，其中所述玻璃基板，作为显示基板也可以替换为其他材料的基板如复合材料基板等。上述技术方案中，由于两个电极板中有一个电极板的内表面为阶梯面，当射频发生器在两个电极板之间施加射频(电场)信号时，该阶梯面拐角处的凸角由于电场较强，而与其相对的电极板是平面，该凸角部分会产生电晕或者辉光放电，从而达到起辉放电的效果，之后随着射频发生器功率的增加便会在两个电极板之间形成大面积稳定的辉光放电。因为两个电极板之间的缝隙存在窄缝和宽缝两个部分，缝隙内气体的流动会使这两个部分产生一定的气压差，使得放电只发生在两个电极板之间气压较高的宽缝部分，即在宽缝部分产生射频容性耦合等离子体。基板经过两个电极板下方时，该缝隙中的射频容性耦合等离子体就能够对基板进行表面处理。射频容性耦合等离子体是一种均匀、稳定的辉光放电等离子体，并且该等离子体可以从缝隙中直接涂布到基板表面，使等离子体能够与基板的表面充分均匀接触。因此，本实施例所提供的APP处理装置能够使等离子体在基板上均匀分布，从而有效避免了之后涂敷在基板上的光刻胶发生部分不定性脱落，提高了产品的良品率。射频发生器21的工作频率为13. 56MHz，其两端分别与两个电极板11、12相连接，向两个电极板11、12施加射频信号。其中，射频发生器21的正极连接至前电极板11，负极连接至后电极板12，并将后电极板12接地。当射频发生器21在两个电极板11、12之间施加射频(电场)信号时，前电极板11的阶梯面拐角处的凸角110由于电场较强，而且与其相对的后电极板12的内表面是平面，该凸角110会产生电晕或者辉光放电，从而达到起辉放电的效果，之后随着射频发生器21功率的增加便会在两个电极板11、12之间形成大面积稳定的辉光放电。因为两个电极板11、12之间的缝隙13存 在窄缝和宽缝两个部分，缝隙13内气体的流动会使这两个部分产生一定的气压差，使得放电只发生在两个电极板11、12之间气压较高的宽缝部分，即在宽缝部分产生射频容性耦合等离子体14。作为一个优选方案，该APP处理装置还包括传动机构3，传动机构3位于两个电极板11、12下方，且传动方向垂直于两个电极板11、12之间的缝隙13，在图I中为向右传动。具体实施方式可以是传动滚轮或传送带，用于从两个电极板11、12的下方传输玻璃基板31。玻璃基板31在传动机构3的带动下经过两个电极板11、12下方时，该缝隙13中的射频容性耦合等离子体14就能够对玻璃基板31进行表面处理本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示基板的大气压等离子体处理装置，用于对显示基板进行大气压等离子体处理，其特征在于：包括射频发生器和相对竖直放置的两个电极板；其中，一个电极板的内表面为平面，另一个电极板的内表面为阶梯面，使所述两个电极板之间形成上窄下宽的缝隙，并在所述缝隙内产生等离子体；所述射频发生器与所述两个电极板相连接，向所述两个电极板施加射频信号。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄文同，胡文斌，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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