纳米颗粒的制法、由其制备的纳米颗粒、和光子晶体器件制造技术

制备高折射纳米颗粒的方法，通过所述方法制备的纳米颗粒和使用所述纳米颗粒的光子晶体器件。所述方法包括：将聚合物稳定剂加入溶剂；和将具有等于或大于1.8的折射率的高折射纳米颗粒的原料加入所述溶剂并将其搅拌以形成高折射纳米颗粒，其中通过调节所述聚合物稳定剂的含量以控制吸附到所述高折射纳米颗粒表面的所述聚合物稳定剂的量，在从加入所述原料到形成所述高折射纳米颗粒的一步中控制所述高折射纳米颗粒的尺寸。使用通过所述方法制备的所述高折射纳米颗粒的光子晶体器件可具有高反射率和高能见度。

【技术实现步骤摘要】
纳米颗粒的制法、由其制备的纳米颗粒、和光子晶体器件
本公开内容涉及制备高折射纳米颗粒的方法、通过所述方法制备的纳米颗粒和使用所述纳米颗粒的光子晶体器件。
技术介绍
与光强烈相互作用的高折射纳米颗粒是光学领域中的重要材料。因此，近来在光学领域中进行了使用高折射纳米颗粒如TiO2、CdS、SnO2、ZnO、ZrO2和CdSe的许多尝试。从高折射材料中，II-VI或III-V族化合物半导体可通过使用化学方法或量子限制方法控制带隙，并因此被认为是高度期望的光学材料。虽然已经积极地进行了对于该材料的研究，但是现有的材料是具有等于或小于50nm尺寸的纳米颗粒或者具有接近于微米尺寸的尺寸的颗粒。因此，在制备具有均匀的介观尺寸分布的纳米颗粒方面存在限制。因为具有介观尺寸的颗粒可与在可见波段中的光相互作用，因此所述具有介观尺寸的颗粒可用在包括显示器的多种领域中。例如，具有介观尺寸的颗粒可通过使用自组装等组成光子晶体。光子晶体具有网格结构，其中具有不同折射率的两种或更多种材料以二维(2D)或三维(3D)方式规则地排列。这样的具有网格结构的光子晶体具有这样的光子带隙：由于折射率的周期性分布，具有特定波长的本文档来自技高网...

【技术保护点】
制备高折射纳米颗粒的方法，所述方法包括：将聚合物稳定剂加入溶剂；和将具有等于或大于1.8的折射率的高折射纳米颗粒的原料加入所述溶剂并将其搅拌以形成高折射纳米颗粒，其中通过调节所述聚合物稳定剂的含量以控制吸附到所述高折射纳米颗粒表面的所述聚合物稳定剂的量，在从加入所述原料到形成所述高折射纳米颗粒的一步中控制所述高折射纳米颗粒的尺寸。

【技术特征摘要】
2011.08.24 KR 10-2011-00848181.制备高折射纳米颗粒的方法，所述方法包括：将聚合物稳定剂加入溶剂；和将具有等于或大于1.8的折射率的高折射纳米颗粒的原料加入所述溶剂并将其搅拌以形成高折射纳米颗粒，其中通过调节所述聚合物稳定剂的含量以控制吸附到所述高折射纳米颗粒表面的所述聚合物稳定剂的量，在从加入所述原料到形成所述高折射纳米颗粒的一步中控制所述高折射纳米颗粒的尺寸，其中所述高折射纳米颗粒的直径控制为50nm-300nm的范围，其中所述聚合物稳定剂是聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、聚丙烯酸或聚乙烯醇，和其中在所述溶剂中所述聚合物稳定剂的含量为0.1重量％-2重量％。2.如权利要求1所述的方法，其中所述高折射纳米颗粒为ZnS、TiO2、ZnO或ZrO2。3.如权利要求1所述的方法，其中所述高折射纳米颗粒用透明材料涂覆以形成核-壳结构。4.如权利要求3所述的方法，其中所述透明材料是二氧化硅。5.通过包括如下的方法制备的高折射纳米颗粒：将聚合物稳定剂加入溶剂；和将具有等于或大于1.8的折射率的高折射率纳米颗粒的原料加入所述溶剂并将其搅拌以形成高折射纳米颗粒,其中通过调节所述聚合物稳定剂的含量以控制吸附到所述高折射纳米颗粒表面的所述聚合物稳定剂的量，在从加入所述原料到形成所述高折射纳米颗...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩文奎，沈洪植，申昶均，全锡珍，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：