一种彩膜基板及其制作方法和显示面板技术

本发明专利技术的实施例提供一种彩膜基板及其制作方法和显示面板，涉及显示领域，可以提高显示器的对比度，进而提高显示器的显示品质。该彩膜基板，包括位于基板上的第一透明电极层，位于所述第一透明电极层上的黑矩阵的图形，在所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成的均匀排列的显示单元，覆盖所述显示单元及所述黑矩阵的图形的第二透明电极层；其中所述每个显示单元包括多个用于显示图像的子像素材料层的图形，所述显示单元还包括：用于控制显示对比度的电致变色器件ECD子像素材料层的图形。本发明专利技术应用于显示面板制造。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法和显示面板。
技术介绍
随着社会的进步及科技发展，薄膜晶体管液晶显示器(Thin FilmTransistorLiquid Crystal Display,简称TFT-IXD)已经成为当今时代显示领域的主流产品，在工业生产、日常生活中起到了至关重要的作用，也越来越受到人们的青睐。同时，人们对显示器的品质要求也越来越高，如高亮度、高对比度，低功耗等显示器已经成为了主流产品，目前液晶显示器的对比度在很大程度上直接反应了显示品质。为了提高液晶显示器的显示品质，研发人员做了很多工作，通过在 RGB (Red-Green-Blue,简称红-绿-蓝)子像素外再设计一个第四色子像素，优选RGBff (Red-Green-Blue-white,简称红-绿-蓝-白)结构TFT-IXD。使用这种结构的彩色滤光片多制备的TFT-LCD，由于有了白色子像素的存在，能有效的提高整个液晶面板的透过率，即可以提高液晶显示器的亮度。但由于有第四子像素的存在，使得其在暗态时的亮度会相应的提高，所以会导致液晶显示器的对比度不够高。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种彩膜基板及其制作方法和显示面板，可以提高显示器的对比度，进而提闻显不器的显不品质。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案第一方面，提供一种彩膜基板，包括位于基板上的第一透明电极层，位于所述第一透明电极层上的黑矩阵的图形，在所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成的均匀排列的显示单元，覆盖所述显示单元及所述黑矩阵的图形的第二透明电极层；其中所述每个显示单元包括多个用于显示图像的子像素材料层的图形，所述显示单元还包括用于控制显示对比度的电致变色器件E⑶子像素材料层的图形。可选的，所述彩膜基板还包括覆盖所述第二透明电极层的树脂层。可选的，所述第一透明电极层和/或所述第二透明电极层对应所述用于显示图像子像素材料层的图形的部分被去除。可选的，所述ECD子像素材料层为黄色或白色或任意颜色。第二方面，提供一种彩膜基板的制作方法，包括在基板上形成一层第一透明电极层；在所述第一透明电极层上形成黑矩阵的图形；在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成用于显示图像的子像素材料层的图形；在所述第一透明电极上所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成用于控制显示对比度的电致变色器件ECD子像素材料层的图形；在所述黑矩阵的图形及所述像素区域的所有子像素材料层的图形上形成一层第二透明电极层。可选的，所述方法还包括在所述第二透明电极层上形成一层树脂层。可选的，所述在基板上形成一层第一透明电极层后，该方法还包括通过一次构图工艺去除所述第一透明电极层对应所述用于显示图像的子像素材料层的图形的部分。可选的，所述在所述黑矩阵的图形及所述像素区域的所有子像素材料层的图形上形成一层第二透明电极层后，还包括 通过一次构图工艺去除所述第二透明电极层对应所述用于显示图像的子像素材 料层的图形的部分。可选的，所述ECD子像素材料层的图形为无机电致变色材料，或者有机电致变色材料，或者有机无机复合电致变色材料。可选的，所述有机电致变色材料包括但不限于聚噻吩类及其衍生物，或紫罗精类，或四硫富瓦烯，或金属酞菁类化合物，或聚苯胺类化合物；所述无机电致变色材料包括三氧化钨，或三氧化钥，或五氧化二钒。可选的，所述在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成用于控制显示对比度的电致变色器件ECD子像素材料层的图形的步骤包括采用喷墨inkjet工艺或掩膜mask刮涂工艺将所述无机电致变色材料的稀凝胶制备在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形围成的像素区域内形成用于控制显示对比度的E⑶子像素的区域；在50°C 70°C的范围内加热，形成用于控制显示对比度的E⑶子像素材料层的图形。可选的，所述在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形形成的像素区域形成用于控制显示对比度的电致变色器件ECD子像素材料层的图形的步骤包括在所述第一透明电极层上所述黑矩阵的图形围成的像素区域内采用喷墨inkjet工艺将所述有机电致变色材料制备在用于控制显示对比度的E⑶子像素的区域。第三方面，提供一种显示面板，其特征在于，包括第一方面所述的任一彩膜基板。本专利技术的实施例提供的彩膜基板及其制作方法和显示面板，在显示面板的彩膜基板上设置电致变色器件ECD子像素材料层的图形，通过控制ECD子像素材料层的图形的透光状态控制显示面板上背光在该E⑶子像素材料层的图形的区域的透过情况，能够增加显示面板在亮态时的亮度、降低显示面板在暗态时的亮度，进而提高显示器的对比度，提高显示器的显示品质。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为本专利技术的实施例提供的一种彩膜基板的俯视结构示意图；图2为本专利技术的实施例提供的一种彩膜基板在图I所示的AA’截面的结构示意图；图3为本专利技术的实施例提供的一种彩膜基板的制作方法的流程示意图。附图标记1_基板；2_第一透明电极层；3_黑矩阵的图形；4_子像素材料层的图形(用于显示图像)；5-E⑶子像素材料层的图形；6-第二透明电极层；7-树脂层。具体实施例方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的实施例提供一种彩膜基板，如图1、2所示，包括位于基板I上的第一透明电极层2，位于第一透明电极层2上的黑矩阵3，在该黑矩阵的图形3围成的像素区域形成的均匀排列的显示单元，覆盖显示单元及黑矩阵的图形3的第二透明电极层6 ;其中每个显示单元包括多个用于显示图像的子像素材料层的图形4,显示单元还包括用于控制显示对比度的电致变色器件E⑶(Electrochromic Device)子像素材料层的图形5。具体的，E⑶子像素材料层的图形5为黄色或白色或任意颜色。电致变色材料的光学属性，在外加电场的作用下会发生稳定、可逆的颜色变化，在外观上表现为颜色和透明度的可逆变化。应用电致变色材料制作的电致变色器件同样具有电致变色材料的这一特性。该光学属性包括但不限于反射率、透过率、吸收率。此外，这里提供的显示单元包括的多个用于显示图像的子像素材料层的图形不限于为红绿蓝RGB三原色子像素材料层的图形，当然也可以是包括四个或更多用于图像配色的子像素材料层的图形的结构。可选的，彩膜基板还包括覆盖第二透明电极层的树脂层7。由于会在第二透明电极层上形成高度差，这样采用树脂层7找平第二透明电极层；然后在形成的树脂层上形成彩膜基板的其他结构层，如液晶取向层等，使得显示面板对盒后各处盒厚一致，以此保证显示面板的显示效果，当然在扭曲向列型(Twisted Nematic,简称TN)显示模式下该彩膜基板还包括公共电极层。进一步的，第一透明电极层和/或第二透明电极层对应用于显示图像的子像素材料层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括位于基板上的第一透明电极层，位于所述第一透明电极层上的黑矩阵的图形，在所述黑矩阵的图形围成的像素区域形成的均匀排列的显示单元，覆盖所述显示单元及所述黑矩阵的图形的第二透明电极层；其中所述每个显示单元包括多个用于显示图像的子像素材料层的图形，所述显示单元还包括：用于控制显示对比度的电致变色器件ECD子像素材料层的图形。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：石岳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：