多光谱保护薄膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种多光谱保护薄膜及其制备方法，其中保护薄膜为氮氧化铪多光谱保护薄膜；其制备方法包括清洁真空室、清洗基底、安装靶材和多光谱硫化锌基片、真空室抽真空、预溅射和离子束反应溅射制备多光谱氮氧化铪薄膜。本发明专利技术镀制的多光谱氮氧化铪（HfON）薄膜，在中波红外和长波红外具有高的透射率，对原来多光谱ZnS基片的透射率影响很小，同时明显提升了体系的力学性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学薄膜
，具体涉及一种氮氧化铪(HfON)保护薄膜及其制备方法。
技术介绍
红外窗口、头罩是红外系统不可缺少的部件，其功能是保护热成像系统在高速飞行中以及在各种严酷的环境条件冲刷下正常工作。因此，红外窗口材料除了必须具有高的红外透过率、低吸收系数等优良特性外，还必须具有高的机械强度、耐磨损、抗风沙雨蚀 、抗化学腐蚀等性能，且在高温、低温及辐射作用等各种苛刻条件下，其光学和物理化学性能稳定性良好。然而，目前使用的ZnS红外光学材料，不能同时具有所需的光学、热学性能和机械性能。在红外窗口和整流罩上镀制保护膜是解决红外光学系统窗口材料问题的可行办法，这种膜层除必须具有红外透明、吸收系数小等优良的光学性能外，还应能抗热冲击、耐高温，与衬底附着良好，尤为苛刻的要求是能保护红外窗口等元件抗雨水冲击。所以需要给头罩和窗口上镀红外保护膜。对红外保护膜的要求是高硬度和抗摩擦；在可见光和红外波段都有高的透过率；符合军事环境；对各种衬底要有很好的粘附性；能在大尺寸窗口上沉积。
技术实现思路
本专利技术提供一种氮氧化铪(HfON)保护薄膜及其制备方法；在多光谱硫化锌基片上镀制的氮氧化铪光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多光谱保护薄膜，包括多光谱硫化锌基片，其特征在于：所述多光谱硫化锌基片的一面采用离子束反应溅射镀制氮氧化铪薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：董茂进，陈焘，王多书，熊玉卿，王济洲，李晨，张玲，
申请(专利权)人：中国航天科技集团公司第五研究院第五一零研究所，
类型：发明
国别省市：