【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，属于薄膜
技术介绍
随着科学技术在不同领域的交叉应用，对材料在各种复杂环境下的性能产生了更新的需求，一些使用喷涂和印刷方式制备于物体表层的漆膜颜料也逐渐应用于高温和真空的环境条件下，如空间探测器表的标识等。但在这些新环境下的使用会因漆膜颜料的挥发变色而造成一定的局限性。一方面，无论是有机颜料漆膜还是无机颜料漆膜，在高温的环境下，漆膜颜料分子会因热运动加剧而易于脱离基底材料，造成一定程度颜料挥发；另一方 面，真空环境下，漆膜颜料的饱和蒸汽压降低，更加剧了漆膜颜料的挥发。因此，在高温及真空的环境条件下，漆膜颜料会因严重的挥发问题而限制了其应用。为了能够解决在高温及真空的环境条件下漆膜颜料的挥发问题，有人采用增加颜(料)基(料)比的方式，既增加颜料的比例，使得漆膜在高温与真空条件下挥发掉一定量的颜料后仍能保持满足使用要求的颜基比，但这种方式并没有直接减小漆膜的颜料挥发问题，同时会带来较大的真空挥发和质损，在对污染敏感的使用条件下(如空间光学镜头等)，会造成一定的应用局限性。因此需要从其它技术角度出发，减小高温及真空的环境条件下漆膜颜料的挥发问...
【技术保护点】
一种减小漆膜颜料在高温真空环境下挥发的方法，其特征是在制备好的颜料漆膜表面镀制氧化物陶瓷膜层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王洁冰，李林，许旻，赵印中，冯煜东，吴春华，左华平，张尚炜，
申请(专利权)人：中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所，
类型：发明
国别省市：
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