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本发明公开了一种多光谱保护薄膜及其制备方法，其中保护薄膜为氮氧化铪多光谱保护薄膜；其制备方法包括清洁真空室、清洗基底、安装靶材和多光谱硫化锌基片、真空室抽真空、预溅射和离子束反应溅射制备多光谱氮氧化铪薄膜。本发明镀制的多光谱氮氧化铪（HfO...该专利属于中国航天科技集团公司第五研究院第五一0研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国航天科技集团公司第五研究院第五一0研究所授权不得商用。