增透膜制备工艺方法技术

本发明专利技术公开了一种增透膜制备工艺方法，包括有清洁真空室内所有相关器具并放入光学镜片和加入膜料的准备工作步骤；对所述真空室进行抽真空的抽真空步骤；真空度达到要求后预热膜料的预热步骤和将所述膜料气化沉积到所述光学镜片表面的镀膜步骤。所述镀膜步骤包括有在所述光学镜片上首先镀一层氧化铝膜的初镀步骤、再在所述氧化铝膜上镀一层氧化锆膜的中镀步骤和最后在所述氧化锆膜上镀一层氟化镁膜的末镀步骤。与现有技术相比，本发明专利技术有效解决了目前常规镀膜方法所镀的增透膜的适应性不高的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学镀膜加工
，尤其是一种增透膜的制备方法。
技术介绍
目前通用的真空镀膜工艺方法包括有清洁真空室内所有相关部件后放入光学镜片和加入膜料的准备工作步骤；对所述真空室进行抽真空的抽真空步骤；真空度达到要求后的预热真空室和预热膜料的预热步骤和将所述膜料气化沉积到所述光学镜片表面的镀膜步骤。由于普通光学镜片的透光性不高造成成像不够清晰，为了解决这个问题，现在广泛使用的方法一般是在光学镜片的表面上通过真空镀膜机镀单层氟化镁膜，但这种单层氟化 镁膜仅对某一特定波长的光波具有较高的透过率，对其它波长的光波的透过率却较低，因此，这种光学薄膜的适用性不高，应用范围较窄。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种透过率在很宽的波长范围内均较高的。为了解决上述问题，本专利技术采用的技术方案是这种，包括有清洁真空室内所有相关器具并放入光学镜片和加入膜料的准备工作步骤；对所述真空室进行抽真空的抽真空步骤；真空度达到要求后预热膜料的预热步骤和将所述膜料气化沉积到所述光学镜片表面的镀膜步骤。所述镀膜步骤有如下分步骤初镀先将光栅左狭缝调至O. 35毫米，光栅右狭缝调至O. 8毫米，在300摄氏度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种增透膜制备工艺方法，包括有清洁真空室内所有相关器具并放入光学镜片和加入膜料的准备工作步骤；对所述真空室进行抽真空的抽真空步骤；真空度达到要求后预热膜料的预热步骤和将所述膜料气化沉积到所述光学镜片表面的镀膜步骤；其特征在于：所述镀膜步骤有如下分步骤：A、初镀：先将光栅左狭缝调至0.35毫米，光栅右狭缝调至0.8毫米，在300摄氏度的烘烤温度下恒定15？？20分钟后，进行初镀，初镀的工艺条件：膜料为氧化铝，烘烤温度为300摄氏度，真空度为3x10？3帕，控制波长为530纳米，束流为140毫安，测厚仪控制为一个极大值；B、中镀：中镀的工艺条件：膜料为氧化锆，烘烤温度为300摄氏度，真空度为7.5...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王永健，高思颖，严庆华，
申请(专利权)人：梧州奥卡光学仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：