一种增透滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种增透滤光片，涉及滤光片技术领域。本实用新型专利技术包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7层增透膜，该7层增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛TiO2膜层多次交替堆叠组成。本实用新型专利技术在380-700nm的可见光波段，其平均反射率低于1%，其可见光透过率非常高，不易产行干扰问题；能广泛应用于数码像机、数码录像机、监控用摄像机、电脑摄像头、手机摄像、可视电话、电子玩具等CCD或CMOS成像系统设备领域，且能满足高精密成像设备对增透滤光片的要求。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种滤光片，特别涉及一种能有效增加可见光透过率的增透滤光片。
技术介绍
目前，滤光片之透明玻璃基片的可见光透过率只有92%，而剩下的8%则被透明玻璃基片本身反射掉。在可拍照手机摄像头、电脑内置摄像头、汽车摄像头等数码成像领域，如果不对滤光片进行增透处理，则(XD/CM0S成像会很差，因此，滤光片的透明玻璃基片上通常都镀有增透膜，用以增加可见光透过率。可见光主要包括红光、橙光、黄光、绿光、蓝光、紫光，在现有技术中，增透滤光片一般只能对绿光、黄光和蓝光进行增透处理，而不能对红光、橙光和紫光进行有效的增透，因而其增透范围较窄；再者，现有技术中增透滤光片的增透膜易对IR功能膜(如红外截止功能膜)产生光干扰问题，因而，不能满足高精密成像设备的要求。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种不易产生光干扰问题，能对较宽范围内的可见光进行有效增透，且在380-700nm的可见光波段，其平均反射率低于1%的增透滤光片。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是:一种增透滤光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7层增透膜，该7层增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛TiO2膜层多次交替堆叠组成，该7层增透膜从内至外依次为:第I层，SiO2膜层，厚度为175.5-176nm ;第2层，TiO2膜层，厚度为12.5-12.8nm ;第3层，SiO2膜层，厚度为31.5-32nm ;第4层，TiO2膜层，厚度为68-68.49nm ;第5层，SiO2膜层，厚度为4-4.3nm ;第6层，TiO2膜层，厚度为34-34.4nm ;第7层，SiO2膜层，厚度为85.5_86nm。本技术增透滤光片的制造工艺包括:将透明玻璃基板置于精密真空镀膜机中，然后设定好膜层厚度参数，最后通过真空镀膜(例如蒸镀)方式形成所述的7层增透膜。镀膜之后的增透滤光片在380-700nm的可见光波段，其平均反射率低于1%。本技术的有益效果是:本技术具有7层增透膜，在380_700nm的可见光波段，其平均反射率低于1%，其可见光透过率非常高，不易干扰到功能膜(如红外截止功能膜)；本技术能广泛应用于数码像机、数码录像机、监控用摄像机、电脑摄像头、手机摄像、可视电话、电子玩具等CCD或CMOS成像系统设备领域，且能满足高精密成像设备对增透滤光片的要求。附图说明图1为本技术增透滤光片的整体结构示意图。图2为本技术增透滤光片进行光线透射测试的反射率特性图。具体实施方式以下结合附图对本技术的结构原理和工作原理作进一步详细说明。如图1所示，在该具体实施方式中，该增透滤光片100包括透明玻璃基板I及透明玻璃基板I上的7层增透膜2，该7层增透膜2由低折射率的二氧化硅SiO2膜层21和高折射率的二氧化钛TiO2膜层22多次交替堆叠组成，该7层增透膜2从内至外依次为:第I层，SiO2膜层，厚度为175.5-176nm ;第2层，TiO2膜层，厚度为12.5-12.8nm ;第3层，SiO2膜层，厚度为31.5-32nm ;第4层，TiO2膜层，厚度为68-68.49nm ;第5层，SiO2膜层，厚度为4-4.3nm ;第6层，TiO2膜层，厚度为34-34.4nm ;第7层，SiO2膜层，厚度为85.5_86nm。 在上述技术方案中，二氧化钛膜层22和二氧化硅膜层21通过真空镀膜(如真空蒸镀)方式形成于透明玻璃基板之上，二氧化钛膜层22和二氧化硅膜层21的层数和厚度是根据二氧化钛及二氧化硅的折射率，经大量计算而得出的，二氧化钛具有较高折射率，其在部分光线波段中的折射率参见表一 ；二氧化娃具有较低折射率，其在部分光线波段中的折射率参见表二。表一、二氧化钛在部分光线波段中的折射率:权利要求1.一种增透滤光片，其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7层增透膜，该7层增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛TiO2膜层多次交替堆叠组成，该7层增透膜从内至外依次为:第I层，SiO2膜层，厚度为175.5-176nm;第2层，TiO2膜层，厚度为12.5-12.8nm ;第3层，SiO2膜层，厚度为31.5_32nm ;第4层，TiO2膜层，厚度为68-68.49nm ;第5层，SiO2膜层，厚度为4-4.3nm ;第6层，TiO2膜层，厚度为34-34.4nm ；第7层，SiO2膜层，厚度为85.5-86nm。2.根据权利要求1所述的增透滤光片，其特征在于:所述7层增透膜的厚度依次为:第I 层，175.584nm ;第 2 层，12.513nm ’第 3 层，31.753nm ;第 4 层，68.433nm ;第 5 层，4.064nm ；第 6 层，34.366nm ;第 7 层，85.808nm。3.根据权利要求1或2所述的增透滤光片，其特征在于:所述透明玻璃基板为光学玻璃基板D263T。4.根据权利要求3所述的增透滤光片，其特征在于:所述光学玻璃基板D263T的厚度为 0.145mm 或 0.21mm 或· 0.3mm 或 0.4mm 或 0.55mm。专利摘要本技术公开了一种增透滤光片，涉及滤光片
本技术包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7层增透膜，该7层增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛TiO2膜层多次交替堆叠组成。本技术在380-700nm的可见光波段，其平均反射率低于1%，其可见光透过率非常高，不易产行干扰问题；能广泛应用于数码像机、数码录像机、监控用摄像机、电脑摄像头、手机摄像、可视电话、电子玩具等CCD或CMOS成像系统设备领域，且能满足高精密成像设备对增透滤光片的要求。文档编号G02B1/11GK203164459SQ20132007588公开日2013年8月28日 申请日期2013年2月19日 优先权日2013年2月19日专利技术者奂微微, 黄兴桥 申请人:东莞五方光电科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种增透滤光片，其特征在于：包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7层增透膜，该7层增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛TiO2膜层多次交替堆叠组成，该7层增透膜从内至外依次为：第1层，SiO2膜层，厚度为175.5?176nm；第2层，TiO2膜层，厚度为12.5?12.8nm；第3层，SiO2膜层，厚度为31.5?32nm；第4层，TiO2膜层，厚度为68?68.49nm；第5层，SiO2膜层，厚度为4?4.3nm；第6层，TiO2膜层，厚度为34?34.4nm；第7层，SiO2膜层，厚度为85.5?86nm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：奂微微，黄兴桥，
申请(专利权)人：东莞五方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：