一种日夜两用型滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种日夜两用型滤光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的51层膜，该51层膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛TiO2膜层多次交替堆叠组成。本实用新型专利技术在380-620nm透射波段与840-860nm透射波段，其平均透射率在98%以上，而在700-780nm截止波段与900-1100nm截止波段，其平均透过率小于1%；本实用新型专利技术能有效截除次峰，中心波长无温飘，膜层牢固度强，无色差均匀性好，不易出现次峰通带，不易产生光干扰问题；能广泛应用于数码像机、数码录像机、监控用摄像机、电脑摄像头、手机摄像、可视电话、电子玩具、红外感应等CCD或CMOS成像系统设备领域。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种滤光片，特别涉及一种日夜两用型滤光片。
技术介绍
日夜两用型滤光片是能通过一可见光带和一红外光窄带，同时能阻止900-1100nm近红外光通过的滤光片，主要用于CCD或CMOS成像系统中，白天可以获得真彩色图像，晚上可以获得清晰的黑白图像，在数码像机、数码录像机、监控用摄像机、电脑摄像头、手机摄像、可视电话、电子玩具、红外感应等摄像设备领域具有广泛的应用。在现有技术中，日夜两用型滤光片往往在透射波段内平均透射率难以达到98%，而截止波段透射率则高于1%，中心波长易出现温飘，膜层牢固度较差，易出现色差，易出现次峰通带，易产生光干扰问题，因而难以满足CCD或CMOS成像系统对日夜两用型滤光片的要求。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种380_620nm透射波段与840-860nm透射波段的平均透射率高，而700-780nm截止波段与900-1 IOOnm截止波段的透射率低，能有效截除次峰，中心波长无温飘，膜层牢固度强，无色差均匀性好，不易出现次峰通带，不易产生光干扰问题的日夜两用型滤光片。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是:一种日夜两用型滤光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的51层膜，该51层膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛T i O2膜层多次交替堆叠组成，该51层膜从内至外依次为:第I层，SiO2膜层，厚度为108.5-109nm;第2层，TiO2膜层，厚度为7.5_8nm;第3层，SiO2膜层，厚度为36-36.4nm ;第4层，TiO2膜层，厚度为100.5-lOlnm ;第5层，SiO2膜层，厚度为158.5-159nm;第6层，TiO2膜层，厚度为18.5_19nm;第7层，SiO2膜层，厚度为5.6-5.9nm ;第8层，TiO2膜层，厚度为180-180.4nm ;第9层，SiO2膜层，厚度为48.6-49nm ;第 10 层，TiO2 膜层，厚度为 8-8.4nm ;第 11 层，SiO2 膜层，厚度为 74.5_75nm ；第12层，TiO2膜层，厚度为88-88.4nm ;第13层，SiO2膜层，厚度为136.5_137nm ;第14层，TiO2膜层，厚度为80.5-81nm;第15层，SiO2膜层，厚度为142.5_143nm ;第16层，TiO2膜层，厚度为46.5-46.8nm ;第17层，SiO2膜层，厚度为15-15.4nm ;第18层，TiO2膜层，厚度为18-18.4nm ;第19层，SiO2膜层，厚度为122-122.4nm ;第20层，TiO2膜层，厚度为90-90.4nm ;第21层，SiO2膜层，厚度为158-158.49nm ;第22层，TiO2膜层，厚度为8-8.4nm ;第 23 层，SiO2 膜层，厚度为 165-165.4nm ;第 24 层，TiO2 膜层，厚度为 87-87.4nm ；第25层，SiO2膜层，厚度为135.5-136nm ;第26层，TiO2膜层，厚度为83.5_84nm ;第27层，SiO2膜层，厚度为138.5-139nm;第28层，TiO2膜层，厚度为91.5-92nm;第29层，SiO2膜层，厚度为165.5-166nm ;第30层，TiO2膜层，厚度为23.8-24.2nm ;第31层，SiO2膜层，厚度为15.5-16nm ;第32层，TiO2膜层，厚度为75.5_76nm ;第33层，SiO2膜层，厚度为13.7-14.2nm ;第34层，TiO2膜层，厚度为27.5-27.8nm ;第35层，SiO2膜层，厚度为178-178.4nm ;第36层，TiO2膜层，厚度为108.5_109nm ;第37层，SiO2膜层，厚度为177-177.4nm ;第38层，TiO2膜层，厚度为112-112.4nm ;第39层，SiO2膜层，厚度为177.5-178nm ;第40层，TiO2膜层，厚度为109-109.4nm ;第41层，SiO2膜层，厚度为158.5-159nm;第42层，TiO2膜层，厚度为6-6.4nm ;第43层，SiO2膜层，厚度为13.5-13.8nm ;第44层，TiO2膜层，厚度为93-93.4nm ;第45层，SiO2膜层，厚度为16-16.4nm ;第 46 层，TiO2 膜层，厚度为 14.5_15nm ;第 47 层，SiO2 膜层，厚度为 167-167.4nm第48层，TiO2膜层，厚度为11-11.3nm ;第49层，SiO2膜层，厚度为18.6_19nm ;第50层，TiO2 膜层，厚度为 100.5-100.8nm ;第 51 层，SiO2 膜层，厚度为 82.6_83nm。本技术日夜两用型滤光片的制造工艺包括:将透明玻璃基板置于精密真空镀膜机中，然后设定好膜层厚度参数，最后通过真空镀膜(例如蒸镀)方式形成所述的51层膜。镀膜之后的日夜两用型滤光片在380-620nm透射波段与840_860nm透射波段，其平均透射率在98%以上，而在700-780nm截止波段与900-1 IOOnm截止波段，其平均透过率小于1%。本技术的有益效果是:本技术的膜层为51层，在380_620nm透射波段与840-860nm透射波段的平均透射率高，而700_780nm截止波段与900-1 IOOnm截止波段的透射率低，能有效截除次峰，中心波长无温飘，膜层牢固度强，无色差均匀性好，不易出现次峰通带，不易产生光干扰问题；本技术能广泛应用于数码像机、数码录像机、监控用摄像机、电脑摄像头、手机摄像、可视电话、电子玩具、红外感应等CCD或CMOS成像系统设备领域。附图说明图1为本技术日夜两用型滤光片的整体结构示意图。图2为本技术日夜两用型滤光片的另一整体结构不意图。图3为本技术日夜两用型滤光片进行光线透射测试的透射率特性图。图中:100.日夜两用型滤光片；1.透明玻璃基板；2.51层膜；21.SiO2膜层；22.TiO2月旲层；3.磨fe层。具体实施方式以下结合附图对本技术的结构原理和工作原理作进一步详细说明。如图1所示，在该具体实施方式中，该日夜两用型滤光片100包括透明玻璃基板I及透明玻璃基板上的51层膜2，该51层膜2由低折射率的二氧化硅SiO2膜层21和高折射率的二氧化钛TiO2膜层22多次交替堆叠组成，该51层膜2从内至外依次为:第I层，SiO2膜层，厚度为108.5-109nm;第2层，TiO2膜层，厚度为7.5_8nm;第3层，SiO2膜层，厚度为36-36.4nm ;第4层，TiO2膜层，厚度为100.5-lOlnm ;第5层，SiO2膜层，厚度为158.5-159nm;第6层，TiO2膜层，厚度为18.5_19nm;第7层，SiO2膜层，厚度为5.6-5.9nm ;第8层，TiO2膜层，厚度为180-180.4nm ;第9层，SiO2膜层，厚度为48.6-49nm ;第 10 层，TiO2 膜层，厚度为 8-8.4nm ;第 11 层，SiO2 膜层，厚度为 74.5_75nm ；第12层，TiO2膜层，厚度为88-88.4nm ;第13层，SiO2膜层，厚度为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种日夜两用型滤光片，其特征在于：包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的51层膜，该51层膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜层和高折射率的二氧化钛TiO2膜层多次交替堆叠组成，该51层膜从内至外依次为：第1层，SiO2膜层，厚度为108.5?109nm；第2层，TiO2膜层，厚度为7.5?8nm；第3层，SiO2膜层，厚度为36?36.4nm；第4层，TiO2膜层，厚度为100.5?101nm；第5层，SiO2膜层，厚度为158.5?159nm；第6层，TiO2膜层，厚度为18.5?19nm；第7层，SiO2膜层，厚度为5.6?5.9nm；第8层，TiO2膜层，厚度为180?180.4nm；第9层，SiO2膜层，厚度为48.6?49nm；第10层，TiO2膜层，厚度为8?8.4nm；第11层，SiO2膜层，厚度为74.5?75nm；第12层，TiO2膜层，厚度为88?88.4nm；第13层，SiO2膜层，厚度为136.5?137nm；第14层，TiO2膜层，厚度为80.5?81nm；第15层，SiO2膜层，厚度为142.5?143nm；第16层，TiO2膜层，厚度为46.5?46.8nm；第17层，SiO2膜层，厚度为15?15.4nm；第18层，TiO2膜层，厚度为18?18.4nm；第19层，SiO2膜层，厚度为122?122.4nm；第20层，TiO2膜层，厚度为90?90.4nm；第21层，SiO2膜层，厚度为158?158.49nm；第22层，TiO2膜层，厚度为8?8.4nm；第23层，SiO2膜层，厚度为165?165.4nm；第24层，TiO2膜层，厚度为87?87.4nm；第25层，SiO2膜层，厚度为135.5?136nm；第26层，TiO2膜层，厚度为83.5?84nm；第27层，SiO2膜层，厚度为138.5?139nm；第28层，TiO2膜层，厚度为91.5?92nm；第29层，SiO2膜层，厚度为165.5?166nm；第30层，TiO2膜层，厚度为23.8?24.2nm；第31层，SiO2膜层，厚度为15.5?16nm；第32层，TiO2膜层，厚度为75.5?76nm；第33层，SiO2膜层，厚度为13.7?14.2nm；第34层，TiO2膜层，厚度为27.5?27.8nm；第35层，SiO2膜层，厚度为178?178.4nm；第36层，TiO2膜层，厚度为108.5?109nm；第37层，SiO2膜层，厚度为177?177.4nm；第38层，TiO2膜层，厚度为112?112.4nm；第39层，SiO2膜层，厚度为177.5?178nm；第40层，TiO2膜层，厚度为109?109.4nm；第41层，SiO2膜层，厚度为158.5?159nm；第42层，TiO2膜层，厚度为6?6.4nm；第43层，SiO2膜层，厚度为13.5?13.8nm；第44层，TiO2膜层，厚度为93?93.4nm；第45层，SiO2膜层，厚度为16?16.4nm；第46层，TiO2膜层，厚度为14.5?15nm；第47层，SiO2膜层，厚度为167?167.4nm第48层，TiO2膜层，厚度为11?11.3nm；第49层，SiO2膜层，厚度为18.6?19nm；第50层，TiO2膜层，厚度为100.5?100.8nm；第51层，SiO2膜层，厚度为82.6?83nm。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：奂微微，黄兴桥，
申请(专利权)人：东莞五方光电科技有限公司，
类型：实用新型
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