氯碱工业用纳米结构镍钼活性阴极及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种氯碱工业用纳米结构镍钼活性阴极及其制备方法，活性阴极由导电基体和纳米结构合金镀层组成，其镀层为Ni-Mo合金，平均晶粒尺寸为2-50nm，镀层厚度为20-120μm。制备方法为：首先将基体除油、除锈，然后将基体放入镀槽，电镀Ni-Mo合金；电镀阳极为钌钛网，阳极与阴极的面积比为2∶1。通过常规电镀工艺很容易得到具有纳米结构的活性阴极，操作方便，易于实现工业化。模拟氯碱工业电解槽实验，在电流密度为4KA·dm-2时，阴极电位比现在工业上用的镍阴极降低250mV以上。反复断电，活性阴极未发生腐蚀，槽电压波动在20mV以内，电化学稳定性好。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种氯碱工业用纳米结构镍钼活性阴极，活性阴极由导电基体和纳米结构合金镀层组成，其特征是镀层为Ni？Mo合金，其中按质量百分比计：Ni？55～80％、Mo？20～45％；平均晶粒尺寸为2～50nm，镀层厚度为20～120μm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张卫国，王宏智，姚素薇，吴强，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：