阵列基板、液晶显示元件及阵列基板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种阵列基板、液晶显示元件及其制造方法，所述阵列基板包含由可低温硬化的负型感放射线性树脂组成物而形成的绝缘膜；且使用该阵列基板而提供液晶显示元件。由负型感放射线性树脂组成物而形成绝缘膜12，从而制造阵列基板1，所述负型感放射线性树脂组成物含有包含由选自由不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所构成的群组中的至少1种所形成的结构单元以及由含有环氧基的不饱和化合物所形成的结构单元的共聚物、式(1)或式(2)的化合物。由阵列基板1而构成液晶显示元件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
液晶显不兀件例如在玻璃基板等一对基板中夹持液晶而构成。在一对基板的表面可设置控制液晶配向的配向膜。液晶显示元件对自背光源或外光等光源所放射的光发挥作为微细的光闸(shutter)的功能，使光部分性透过或进行遮光而进行显示。液晶显示元件具有薄型、轻量等优异的特征。液晶显示元件在开发的当初是用作以字符显示等为中心的计算器或时钟的显示元件。其后，由于单纯矩阵方式的开发，点阵显示变容易而使用途扩大至笔记本电脑的显示元件等中。另外，由于主动矩阵型的开发，变得可实现对比率或响应性能优异的良好画质，亦克服了高精细化、彩色化及视角扩大等课题，从而将用途扩大至台式电脑的显示器用途·等中。于最近，实现了更广的视角或液晶的高速响应化或显示品质的提高等，从而用作大型的薄型电视用显示元件。而且，液晶显示元件要求更进一步的高画质化或亮度的提高。于主动矩阵型的液晶显示元件中，于夹持液晶的一对基板中的其中一个上将栅配线与信号配线配设为格子状，于栅配线与信号配线的交叉部设置薄膜晶体管(TFT =ThinFilm Transistor)等开关有源元件，构成阵列基板。于阵列基板上包围栅配线与信号配线的区域配置像素电极，由该像素电极而构成作为显示单位的像素。于液晶显示元件中，在欲实现亮度提高的情况下，有效的是使像素电极变大。可通过使像素电极的面积尽可能地变大，使数值孔径提高，从而使亮度增大。在这种情况下，例如已知有如专利文献I所记载那样使像素电极与栅配线或信号配线重叠，而使数值孔径提高的技术。于专利文献I中揭示了如下的液晶显示元件于阵列基板中，于配线与像素电极之间设置厚的包含有机材料的绝缘膜，由此而抑制像素电极与配线之间的耦合电容增大，使数值孔径提高。现有技术文献专利文献专利文献I日本专利特开2001-264798号公报如专利文献I中所记载的液晶显示元件那样，于阵列基板中在配线与像素电极之间设置厚的包含有机材料的绝缘膜时，TFT等开关元件与像素电极的电性连接可使用在绝缘膜上所设的接触孔而实现。于在包含有机材料的绝缘膜上形成接触孔时，有效的是利用光刻技术。在这种情况下，作为绝缘膜的形成材料，优选使用感放射线性的树脂组成物(以下称为感放射线性树脂组成物)，特别是感放射线性树脂组成物优选选择所谓的正型感放射线性树脂组成物。于使用正型感放射线性树脂组成物的绝缘膜中，若感应放射线则于显影液中的溶解性增大，从而除去感应部分。因此，于使用正型感放射线性树脂组成物时，可通过对绝缘膜的接触孔的形成部分照射放射线而比较容易地形成接触孔。另外，在本专利技术中，所谓“放射线”是包括可见光线、紫外线、远紫外线、X射线、带电粒子束等的概念。然而，于正型感放射线性树脂组成物的情况下，变得必需特殊的材料，例如含有受到放射线照射而生成酸的化合物作为成分等。此种特殊材料并不容易获得，而且材料选择的范围变狭窄。因此，要求应用具有如下性质的负型感放射线性树脂组成物能够应用于光刻技术中，可使用容易获得的多种材料而实现组成。负型感放射线性树脂组成物是若受到放射线照射而感应放射线，则于显影液中的溶解性降低，感应部分于显影后残存的感放射线性树脂组成物。然而，于使用负型感放射线性树脂组成物而在绝缘膜上形成接触孔时，如上所述那样对接触孔以外的绝缘膜的残存部分照射放射线(以下称为“曝光”)，产生反应，其后进行加热硬化等而形成绝缘膜。因此，于曝光、显影、加热硬化与后续的绝缘膜的制造步骤中存在如下的现象绝缘膜的尺寸变动与正型相比而言变大。特别是使用先前的负型感放射线性树脂组成物时，必须于230°C 260°C左右的非常高的温度下进行曝光与显影后的硬化。因此，加热硬化步骤中的热膨胀或收缩等尺寸的变动变大，存在在对配置位置与尺寸管理要求严格的接触孔形成中产生不良的现象。根据以上，期望使用负型感放射线性树脂组成物而构成阵列基板上的绝缘膜，且可抑制热膨胀或收缩而形成接触孔。因此，为了使曝光与显影后的硬化步骤代替先前的高温加热的硬化步骤，必需例如可于200°C以下的低温下硬化的负型感放射线性树脂组成物。具有此种硬化特性的负型感放射线性树脂组成物可提供所期望的绝缘膜。 而且，于最近自节能的观点考虑，变得要求使制造具有阵列基板的液晶显示元件中的加热步骤低温化。亦即，于阵列基板与使用该阵列基板的液晶显示元件的制造中，变得要求使各构成元件的硬化步骤等必需加热的步骤低温化而实现节能。根据以上，强烈期望实现可通过低温硬化而形成具有接触孔的绝缘膜的负型感放射线性树脂组成物。而且，强烈期望实现包含使用该负型感放射线性树脂组成物进行低温硬化而成的绝缘膜的阵列基板。另外，强烈期望实现使用此种阵列基板而构成的液晶显示元件。
技术实现思路
本专利技术是鉴于以上课题而成的。亦即，本专利技术的目的是提供一种阵列基板及其制造方法，所述阵列基板包含由可低温硬化的负型感放射线性树脂组成物而形成的绝缘膜。而且，本专利技术的其他目的在于提供一种使用如下阵列基板而构成的液晶显示元件，所述阵列基板包含由可低温硬化的负型感放射线性树脂组成物而形成的绝缘膜。本专利技术的第I态样涉及一种阵列基板，其是包含如下元件的液晶显示元件用阵列基板开关有源元件、于该开关有源元件上所配置的绝缘膜、于该绝缘膜中所形成的接触孔、经由该接触孔而与开关有源元件电性连接的像素电极，其特征在于绝缘膜由含有如下共聚物的负型感放射线性树脂组成物而形成，所述共聚物包含由选自由不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所构成的群组中的至少I种所形成的结构单元及由含有环氧基的不饱和化合物所形成的结构单元。在本专利技术的第I态样中，优选感放射线性树脂组成物含有选自由下述式(I)所表示的化合物、下述式(2)所表示的化合物、叔胺化合物、胺盐、鳞盐、脒盐、酰胺化合物、硫醇化合物、嵌段异氰酸酯化合物及含有咪唑环的化合物所构成的群组中的至少I种化合物，权利要求1.一种阵列基板 ，其是包含如下元件的液晶显示元件用阵列基板 开关有源元件、 于所述开关有源元件上所配置的绝缘膜、 于所述绝缘膜中所形成的接触孔、 经由所述接触孔而与所述开关有源元件电性连接的像素电极， 其特征在于所述绝缘膜由含有如下共聚物的负型感放射线性树脂组成物而形成，所述共聚物包含由选自由不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所构成的群组中的至少I种所形成的结构单元及由含有环氧基的不饱和化合物所形成的结构单元。2.根据权利要求I所述的阵列基板，其特征在于 所述感放射线性树脂组成物含有选自由下述式(I)所表示的化合物、下述式(2)所表示的化合物、叔胺化合物、胺盐、鳞盐、脒盐、酰胺化合物、硫醇化合物、嵌段异氰酸酯化合物及含有咪唑环的化合物所构成的群组中的至少I种化合物，3.根据权利要求I或2所述的阵列基板，其特征在于 所述绝缘膜是在200°C以下的硬化温度下所形成的绝缘膜。4.根据权利要求I或2所述的阵列基板，其特征在于 于所述绝缘膜上包含透明电极，于所述透明电极上包含配向膜，所述配向膜是使用包含具有光配向性基的感放射线性聚合物的液晶配向剂及包含不具光配向性基的聚酰亚胺的液晶配向剂中的任意种所得的配向膜。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于 所述配向膜是使用包含具有光配向性基的感放射线性聚合物的液晶配向剂所得的配向膜。6.一种液晶显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其是包含如下元件的液晶显示元件用阵列基板：开关有源元件、于所述开关有源元件上所配置的绝缘膜、于所述绝缘膜中所形成的接触孔、经由所述接触孔而与所述开关有源元件电性连接的像素电极，其特征在于：所述绝缘膜由含有如下共聚物的负型感放射线性树脂组成物而形成，所述共聚物包含由选自由不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所构成的群组中的至少1种所形成的结构单元及由含有环氧基的不饱和化合物所形成的结构单元。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：一戸大吾，米田英司，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：