本实用新型专利技术提供一种曝光补偿机，其包括：工作台面，支撑结构，光源发生器，取像装置，显示设备，其中：所述工作台面上装设有支撑结构，所述支撑结构上设置有升降装置，所述升降装置上装设有光源发生器及取像装置，所述取像装置位于所述工作台面放置工件位置的上方，所述取像装置连接所述显示设备。本实用新型专利技术提供的曝光补偿机，将不良品放置于工作台面，使用CCD取像，LCD显示设备加以放大显示，从而准确定位不良位置。将标准图形菲林准确放置于工件缺陷部位，降低光源发生器，开启光源对缺陷部位进行二次曝光，从而修正之前因垃圾等遮挡而产生感光不良的部位。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及印刷线路板以及使用感光材料进行图像转移的印刷
，特别涉及印刷线路板上的曝光补偿机。
技术介绍
在现有技术中，以印刷电路板为例。在エ件进行贴感光膜后进行曝光，由于不可避免的曝光垃圾等的存在，エ件会发生曝光不良(曝光垃圾所遮挡位置，感光膜会曝光不良，显影退膜后此处为铜面及线路缺ロ或断线等缺陷)。对于检出的此种不良，目前的补救措置为第一种方式对曝光不良板整板进行返洗，重新贴膜曝光。第二种方式在退膜显影后使用补线机进行补线(用铜线对缺陷处进行焊接)，从而提高合格率，降低损耗。但是，在 这些现有技术中，第一种方式大量浪费人力物力。第二种方式的补线效果的好坏，主要取决于补线机的调节和补线操作员的经验。且目前一些高精板如汽车板，通讯板一般不允许补线。
技术实现思路
本技术提供ー种曝光补偿机，降低因曝光垃圾所造成的报废，省却后续补线エ序，提闻广品合格率。为了实现上述目的，本技术提供以下技术方案ー种曝光补偿机，其包括工作台面，支撑结构，光源发生器，取像装置，显示设备，其中所述工作台面上装设有支撑结构，所述支撑结构上设置有升降装置，所述升降装置上装设有光源发生器及取像装置，所述取像装置位于所述工作台面放置エ件位置的上方，所述取像装置连接所述显示设备。优选地，所述取像装置为CXD取像装置。优选地，所述显示设备为IXD显示设备。通过实施以上技术方案，具有以下技术效果本技术提供的曝光补偿机，将不良品放置于工作台面，使用CXD取像，IXD显示设备加以放大显示，从而准确定位不良位置。将标准图形菲林准确放置于エ件缺陷部位，降低光源发生器，开启光源对缺陷部位进行二次曝光，从而修正之前因垃圾等遮挡而感光不良的部位。附图说明图I为本技术提供的曝光补偿机的结构示意图。具体实施方式为了更好的理解本技术的技术方案，以下结合附图详细描述本技术提供的实施例。本技术实施例提供ー种曝光补偿机，如图I所示，包括工作台面101，支撑结构105，光源发生器，取像装置102，显示设备103，该光源发生器与该取像装置102为一体设置，其中所述工作台面101上装设有支撑结构105，所述支撑结构105上设置有升降装置104，所述升降装置104上装设有取像装置102，所述取像装置102位于所述工作台面101放置エ件201位置 的上方，所述取像装置102连接所述显示设备103。在上述实施例中，优选地，所述取像装置为CXD取像装置。在上述实施例中,优选地,所述显示设备为IXD显示设备。在エ件曝光后，检出不良产品201，将不良品201放置于工作台面，使用CXD取像，IXD显示设备加以放大显示，从而准确定位不良位置。将标准图形菲林202准确放置于エ件缺陷部位，降低光源发生器，开启光源对缺陷部位进行二次曝光，从而修正之前因垃圾等遮挡而感光不良的部位。通过该曝光补偿机，会将因曝光缺陷产生的不良，从源头补救，大大降低生产成本，省却后续繁琐复杂的补线环节，減少报废。以上对本技术实施例所提供的ー种曝光补偿机进行了详细介绍，对于本领域的一般技术人员，依据本技术实施例的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。权利要求1.ー种曝光补偿机，其特征在于，包括工作台面，支撑结构，光源发生器，取像装置，显示设备，其中所述工作台面上装设有支撑结构，所述支撑结构上设置有升降装置，所述升降装置上装设有光源发生器及取像装置，所述取像装置位于所述工作台面放置エ件位置的上方，所述取像装置连接所述显示设备。2.如权利要求I所述曝光补偿机，其特征在于，所述取像装置为CXD取像装置。3.如权利要求I或2所述曝光补偿机，其特征在于，所述显示设备为LCD显示设备。专利摘要本技术提供一种曝光补偿机，其包括工作台面，支撑结构，光源发生器，取像装置，显示设备，其中所述工作台面上装设有支撑结构，所述支撑结构上设置有升降装置，所述升降装置上装设有光源发生器及取像装置，所述取像装置位于所述工作台面放置工件位置的上方，所述取像装置连接所述显示设备。本技术提供的曝光补偿机，将不良品放置于工作台面，使用CCD取像，LCD显示设备加以放大显示，从而准确定位不良位置。将标准图形菲林准确放置于工件缺陷部位，降低光源发生器，开启光源对缺陷部位进行二次曝光，从而修正之前因垃圾等遮挡而产生感光不良的部位。文档编号G03F7/20GK202649669SQ20122030225公开日2013年1月2日 申请日期2012年6月26日 优先权日2012年6月26日专利技术者杨彦武 申请人:杨彦武本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光补偿机，其特征在于，包括：工作台面，支撑结构，光源发生器，取像装置，显示设备，其中：所述工作台面上装设有支撑结构，所述支撑结构上设置有升降装置，所述升降装置上装设有光源发生器及取像装置，所述取像装置位于所述工作台面放置工件位置的上方，所述取像装置连接所述显示设备。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨彦武，
申请(专利权)人：杨彦武，
类型：实用新型
国别省市：
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