一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备技术方案

本实用新型专利技术涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备。该清洁系统包括：掩膜板存储装置，用于存储掩膜板；机械手，用于搬运掩膜板；微粒检测装置，位于掩膜板存储装置的上方，用于对掩膜板的上下表面进行扫描并将扫描信息发送给控制装置；掩膜板清洁装置，用于清洁经微粒检测装置检测后的掩膜板；控制装置，用于根据接收到的扫描信息控制掩膜板清洁装置的开启/闭合；电气提供装置，与上述部件电气连接，用于对上述部件提供动力能源。本实用新型专利技术提供的掩膜板自动清洁系统及曝光设备，可自动对掩膜板进行清洁，提高清洁效率；清洁过程简单、快速，并且清洁效果好，同时该清洁系统操作简便，可节省大量人力成本。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
，特别是涉及ー种掩膜板自动清洁系统及曝光设备。
技术介绍
近年来，随着科技的发展，液晶显示器技术也随之不断完善。TFT-IXD (Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display,薄膜场效应晶体管-液晶显示器)以其图像显示品质好、能耗低、环保等优势占据着显示器领域的重要位置。在TFT-IXD生产エ艺过程中，需要采用掩膜板(mask)对基板进行掩膜曝光作业。掩膜板表面的清洁度直接影响掩膜曝光效果，而现有技术中，对掩膜板的清洁通常采用人エ清洁的方式，这种方式清洁掩膜板不仅耗费的时间较长，并且掩膜板表面清洁的也不够干净，很难达到预期要求。另外，人工清洁掩膜板的方式很容易将掩膜板的表面划伤，对后续エ艺作业造成一定的影响，进而影响最终产品的良率。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本技术要解决的技术问题是提供一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备，以克服现有的采用人工方式对掩膜板进行清洁导致的清洁效果差、耗时长，且容易损伤掩膜板表面造成影响最终广品良率等缺陷。(ニ)技术方案为了解决上述技术问题，本技术一方面提供一种掩膜板自动清洁系统，包括掩膜板存储装置，用于存储掩膜板；机械手，用于搬运所述掩膜板；微粒检测装置，位于所述掩膜板存储装置的上方，用于对所述掩膜板的上下表面进行扫描，并将扫描信息发送给控制装置；掩膜板清洁装置，位于所述掩膜板存储装置的上方并与所述微粒检测装置一体形成封闭的清洁腔室，所述掩膜板清洁装置用于清洁经所述微粒检测装置检测后的掩膜板；控制装置，用于根据接收到的扫描信息控制所述掩膜板清洁装置的开启/闭合；电气提供装置，用于提供动カ能源。进ー步地，所述掩膜板存储装置内部沿纵向方向相对设置有多个用于存储掩膜板盒的支撑柱，所述掩膜板盒内存放掩膜板。进ー步地，所述微粒检测装置包括位于掩膜板上表面和下表面的条形微粒扫描器，所述条形微粒扫描器位于所述微粒检测装置的入ロ方向。进ー步地，所述掩膜板清洁装置包括位于掩膜板上表面和下表面的风刀，所述风刀内置离子风发射端，向所述掩膜板的表面吹送离子风，所述风刀设置在远离所述微粒检测装置的入口方向的ー侧。进ー步地,所述风刀与水平面呈30-60°夹角设置。进ー步地，所述掩膜板清洁装置还包括至少两个排气装置，所述排气装置分别安装在掩膜板上下表面所在的空间，所述排气装置远离风刀。进ー步地，所述排气装置为条形，且与水平面呈30-60°夹角设置。进ー步地，所述清洁腔室的底部和顶部分别设有静电除尘装置。进ー步地，所述控制装置通过可编程逻辑控制器集成，分块对掩膜板自动清洁系统中各装置进行控制另ー方面，本技术还提供一种曝光设备，包括上述的掩膜板自动清洁系统。(三)有益效果上述技术方案具有如下优点本技术提供的掩膜板自动清洁系统及曝光设备，可自动对掩膜板进行清洁，提高清洁效率；清洁过程简单、快速，并且清洁效果好，同时该清洁系统操作简便，可节省大量人力成本。附图说明图I为本技术实施例掩膜板自动清洁系统结构示意图；图2为本技术实施例掩膜板自动清洁系统中掩膜板搬运过程示意图；图3为本技术实施例掩膜板自动清洁系统中微粒检测装置结构及微粒检测示意图；图4为本技术实施例掩膜板自动清洁系统中清洁装置风刀结构示意图；图5为本技术实施例掩膜板自动清洁系统中清洁过程中气流方向示意图；图6为本技术实施例掩膜板自动清洁系统中清洁腔室静电除尘装置结构示意图；图7为本技术实施例掩膜板自动清洁系统中静电除尘装置安装位置及吸附微粒示意图。其中1 :掩膜板存储装置；11 :支撑柱；21 :第一机械手；22 :第二机械手；23 :第三机械手；3微粒检测装置；31 :条形微粒扫描器；4 :掩膜板清洁装置；41 :风刀；42 :排气装置；43 :静电除尘装置；5 :掩膜板；A :掩膜板上表面；B :掩膜板下表面；6 :掩膜板运输车。具体实施方式以下结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进ー步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底” “内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。实施例I如图I所示，本技术实施例提供一种掩膜板自动清洁系统，包括掩膜板存储装置I，用于存储掩膜板；机械手，用于搬运所述掩膜板；微粒检测装置3，位于掩膜板存储装置I的上方，用于对掩膜板的上下表面进行扫描，并将扫描信息发送给控制装置； 掩膜板清洁装置4，位于掩膜板存储装置I的上方并与微粒检测装置3—体形成封闭的清洁腔室，掩膜板清洁装置4用于清洁经微粒检测装置3检测后的掩膜板；控制装置，用于根据接收到的扫描信息控制所述掩膜板清洁装置4的开启/闭合；电气提供装置，用于提供动カ能源。本技术提供的掩膜板自动清洁系统，可自动对掩膜板进行清洁，提高清洁效率；清洁过程简单、快速，并且清洁效果好，同时该清洁系统操作简便，可节省大量人力成本。实施例2如图1-7所示，本技术实施例提供一种掩膜板自动清洁系统，具体包括掩膜板存储装置I、机械手、微粒检测装置(Pellicle Particle Detector，PPD)3和掩膜板清洁装置4、控制装置和电气提供装置。具体的，掩膜板存储装置I用于存储掩膜板5 ;机械手用于搬运掩膜板5。该掩膜板存储装置I内部沿纵向方向相对设置有多个用于放置掩膜板盒的支撑柱11，掩膜板盒放置在处于同一水平面的支撑柱11上。该掩膜板盒内存放掩膜板5。具体支撑柱11的数量可根据实际需求而定。其中同一水平面中的支撑柱11只能存放ー个掩膜板盒，一个掩膜板盒中只能存放ー块掩膜板5。每层位于掩模板存储装置I开ロ方向的支撑柱11的侧壁上设有气动件(图未示)，该气动件可顶开掩膜板盒上的顶盖，其中，该顶盖的表面积大于掩模板盒盒底的表面积，机械手从掩膜板盒中取放掩膜板5。该机械手用于搬运掩膜板5。需要说明的是，搬运不同位置处的掩膜板需要不同的机械手进行配合。按照机械手的功能，可将机械手分为第一机械手21 (Case arm)，用于从掩膜板存储装置I的支撑柱11处取放掩膜板盒，该第一机械手可在CX和CZ方向进行动作；第二机械手22(Exchange hand),可从第一机械手21上的掩膜板盒中取放掩膜板5 ;第三机械手23 (PPD arm)，用于将掩膜板5送入微粒检测装置3和掩膜板清洁本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板自动清洁系统，其特征在于，包括：掩膜板存储装置，用于存储掩膜板；机械手，用于搬运所述掩膜板；微粒检测装置，位于所述掩膜板存储装置的上方，用于对所述掩膜板的上下表面进行扫描，并将扫描信息发送给控制装置；掩膜板清洁装置，位于所述掩膜板存储装置的上方并与所述微粒检测装置一体形成封闭的清洁腔室，所述掩膜板清洁装置用于清洁经所述微粒检测装置检测后的掩膜板；控制装置，用于根据接收到的扫描信息控制所述掩膜板清洁装置的开启/闭合；电气提供装置，用于提供动力能源。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：罗丽平，贠向南，许朝钦，金基用，周子卿，孙增标，路光明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：