一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备技术方案

本实用新型专利技术涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备。该清洁系统包括：掩膜板存储装置，用于存储掩膜板；机械手，用于搬运掩膜板；微粒检测装置，位于掩膜板存储装置的上方，用于对掩膜板的上下表面进行扫描并将扫描信息发送给控制装置；掩膜板清洁装置，用于清洁经微粒检测装置检测后的掩膜板；控制装置，用于根据接收到的扫描信息控制掩膜板清洁装置的开启/闭合；电气提供装置，与上述部件电气连接，用于对上述部件提供动力能源。本实用新型专利技术提供的掩膜板自动清洁系统及曝光设备，可自动对掩膜板进行清洁，提高清洁效率；清洁过程简单、快速，并且清洁效果好，同时该清洁系统操作简便，可节省大量人力成本。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
，特别是涉及ー种掩膜板自动清洁系统及曝光设备。
技术介绍
近年来，随着科技的发展，液晶显示器技术也随之不断完善。TFT-IXD (Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display,薄膜场效应晶体管-液晶显示器)以其图像显示品质好、能耗低、环保等优势占据着显示器领域的重要位置。在TFT-IXD生产エ艺过程中，需要采用掩膜板(mask)对基板进行掩膜曝光作业。掩膜板表面的清洁度直接影响掩膜曝光效果，而现有技术中，对掩膜板的清洁通常采用人エ清洁的方式，这种方式清洁掩膜板不仅耗费的时间较长，并且掩膜板表面清洁的也不够干净，很难达到预期要求。另外，人工清洁掩膜板的方式很容易将掩膜板的表面划伤，对后续エ艺作业造成一定的影响，进而影响最终产品的良率。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本技术要解决的技术问题是提供一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备，以克服现有的采用人工方式对掩膜板进行清洁导致的清洁效果差、耗时长，且容易损伤掩膜板表面造成影响最终广品良率等缺陷。(ニ)技术方案为了解决上述技术问题，本技术一方面提供一种掩膜板自动清洁系统，包括掩膜板存本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板自动清洁系统，其特征在于，包括：掩膜板存储装置，用于存储掩膜板；机械手，用于搬运所述掩膜板；微粒检测装置，位于所述掩膜板存储装置的上方，用于对所述掩膜板的上下表面进行扫描，并将扫描信息发送给控制装置；掩膜板清洁装置，位于所述掩膜板存储装置的上方并与所述微粒检测装置一体形成封闭的清洁腔室，所述掩膜板清洁装置用于清洁经所述微粒检测装置检测后的掩膜板；控制装置，用于根据接收到的扫描信息控制所述掩膜板清洁装置的开启/闭合；电气提供装置，用于提供动力能源。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：罗丽平，贠向南，许朝钦，金基用，周子卿，孙增标，路光明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：