一种基于宏设计集成电路版图的方法技术

本发明专利技术提供一种基于宏设计集成电路版图的方法，特征在于包括以下步骤：（1）针对设计要求，拆分目标版图到多个最简图形单元；（2）与库对比，查看是否能由所述库中现有宏实现分解出的所述最简图形单元，如果是，则进行到步骤（3），否则转到步骤（4）；（3）调用相应的宏，设定参数，进行拼接，形成器件版图；（4）制作新宏，添加到所述库中，接下来按照步骤（3）形成器件版图。通过本发明专利技术，可以实现版图的复用，使得不同工艺之间转化迁移更便利，同时避免大量重复单元绘制时引起偏差与设计工时的浪费，提高精度与工作效率。利用制作宏的方法，可以定制化的制作新的宏，并添加到宏库中，使宏库的规模、适用性及实用性不断提高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及集成电路设计领域，特别是涉及ー种基于宏设计集成电路版图的方法。
技术介绍
集成电路的设计流程，可以分为前端设计和后端设计。其中，版图设计属于后端设计。版图是集成电路物理设计结果，是集成电路设计与制造之间唯一桥梁。无论数字集成电路设计还是模拟/混合集成电路设计，版图设计都是必不可少的环节。通过集成电路版图设计，可以将立体的电路系统变为一个ニ维的平面图形，再经过エ艺加工还原为基于例如硅基或GaAs基等材料的立体结构。因此，版图设计是ー个上承电路系统，下接集成电路·芯片制造的中间桥梁，其重要性可见一斑。随着芯片规模的不断増大，エ艺尺度向更小的尺度发展，设计复杂度也不断提高，版图设计方法学越来越突显出它的重要性并逐渐成为IC设计的ー个新兴领域，它直接影响着芯片流片是否成功，芯片性能的好坏，芯片的成本以及面市时间等。集成电路版图设包含了集成电路的尺寸、各层拓扑定义等与器件相关的物理信息数据。IC版图设计者的任务就是创建芯片各个部分的版图掩模，这个版图掩模要符合工程制图要求、网表或者仿真结果以及エ艺设计规则的要求。近年来迅速发展的计算机、通信、嵌入式或便携式设备中集成电路的高性能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于宏设计集成电路版图的方法，特征在于包括以下步骤：（1）针对设计要求，拆分目标版图到多个最简图形单元；（2）与库对比，查看是否能由所述库中现有宏实现分解出的所述最简图形单元，如果是，则进行到步骤（3），否则转到步骤（4）；（3）调用相应的宏，设定参数，进行拼接，形成器件版图；（4）制作新宏，添加到所述库中，接下来按照步骤（3）形成器件版图。

【技术特征摘要】
1.一种基于宏设计集成电路版图的方法，特征在于包括以下步骤 (1)针对设计要求，拆分目标版图到多个最简图形单元； (2)与库对比，查看是否能由所述库中现有宏实现分解出的所述最简图形单元，如果是，则进行到步骤(3)，否则转到步骤(4)； (3)调用相应的宏，设定參数，进行拼接，形成器件版图； (4 )制作新宏，添加到所述库中，接下来按照步骤(3 )形成器件版图。2.如权利要求I所述的基于宏设计集成电路版图的方法，其中所述拼接的步骤包括根据图形产生顺序确定所述多个最简图形単元中的基准參考单元，按照所述最简图形单元的依赖关系以及所述目标版图的设计规则，排列其他最简图形単元。3.如权利要求I所述的基于宏设计集成电路版图的方法，其中所述制作新宏的步骤由设计參数和设计图形程序组成。4.如权利要求3所述的基于宏设计集成电路版图的方法，其中所述设计參数的步骤包括设计标识单元图层的宏參数、...

【专利技术属性】
技术研发人员：高立博，刘梦新，卢剑，罗家俊，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：