【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开。本专利技术会根据鼠标光标在原始图形上的投影产生吸附点，吸附点提示了原始图形与新图形的边界交点；本专利技术还采用快捷键，自动补全鼠标光标与吸附点间的线段，快速结束操作。这种图形形状修改方法，能大大提高命令执行速度，减少大量的版图放大、缩小及点击操作，提高绘制版图的效率。【专利说明】
修改集成电路版图图形是指在EDA工具中，在原有图形的基础上做调整以获取新图形的过程。本专利技术属于EDA工具中版图设计领域。
技术介绍
版图设计是集成电路设计中最为重要、最为关键的步骤，直接决定着整个芯片设计的成败。随着IC制造工艺的进步，特征尺寸越来越小，设计速度越来越快，版图设计也相应越来越复杂。在集成电路版图设计过程中，经常需要在原有图形的基础上做修改，这一过程被称为Reshape。Reshape有时又需要依赖于原始图形的边界，这就经常要求工程师在执行Reshape时不停地进行版图的放大与缩小，以点选原始图形边界上的点，并且选择新边界的顶点时要不断估计新点与原始图形边界的相对位置关系。这一过程十分费时、费力，尤其当版图较大、较密集时，操作将会十分困难。
技术实现思路
本专利技术公开，通过提示、创建新图形与原始图形的相交点的方式快速完成图形的修改过程，这样的操作方法更加智能便捷，更加人性化。启动Reshape命令后，自动吸附起始点。即自动创建由鼠标到目标图形的卡通，该卡通由鼠标出发，自动吸附至鼠标光标在原始图形上的投影。如此就不需要先将版图放大至图形的边界上再点选起始点的过程了，可以快捷的选择起始点。鼠标移动过程中，卡通随时吸附至原始图形的边界...
【技术保护点】
一种集成电路版图图形状修改过程中的自动吸附边界的方法，权利特征如下:（1）集成电路版图图形修改中，自动吸附起始点；（2）集成电路版图图形修改中，随着鼠标移动，不断更新吸附点，提示新图形与原始图形的相交点；（3）集成电路版图图形修改中，通过快捷键，自动创建由鼠标光标至吸附点间的线段，确定图形的最终边界。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘磊，谢光益，李起宏，
申请(专利权)人：北京华大九天软件有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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