一种依据轨道的交互式布线方法技术

一种依据轨道的交互式布线方法，包括以下步骤：1）设置轨道交互式布线参数；2）选择布线位置，根据所述布线参数使金属线的中心线吸附到对应布线轨道上；3）选择拐弯、跳层进行正交与斜向布线。本发明专利技术的依据轨道的交互式布线方法，能够保证轨道交互式布线的连接性和一致性，满足制造要求。

【技术实现步骤摘要】
一种依据轨道的交互式布线方法
本专利技术涉及集成电路版图设计EDA(ElectronicsDesignAutomation，电子设计自动化)工具
，特别是涉及EDA工具在集成电路版图设计中的交互式布线方法。
技术介绍
随着芯片设计日益复杂，工艺的进步，物理设计面临着越来越大的挑战，超深亚微米工艺不断完善，在芯片面积的减少下，芯片的密度不断提高。布线作为超大规模集成电路中物理设计的后端环节，布线的结果对芯片的性能起到至关重要的作用，这就使得应用EDA(电子设计自动化)工具成为不可或缺的辅助手段。布线是指在物理设计阶段，在要连接的单元、引脚或者其他电子器件之间分配金属线，并且不同连接关系的金属线不能重叠，除此之外，还要满足物理设计中大量的几何约束。伴随着光刻工艺的成熟，芯片性能的提高，往往意味着芯片密度的增加，可布线空间进一步减少，几何约束的数量不断增加，最终导致布线的难度和复杂度大大增加。这给EDA工具带来新的挑战。现有的布线方法都是基于格点(Grid)进行布线。布线过程中以及布线过程中走线方向的转换都在格点的基础上进行，这样完成的走线完全没有考虑设计规则是否违反设计规则检查(DesignRuleCheck，以下简称DRC)，往往DRC规则检查留给版图完成后再进行。在低端工艺中，特别是16nm以上的工艺中，版图设计要求没有太苛刻，布线的风格根据设计者的习惯和经验进行布线，可以是在格点上以任意间距(Spacing)进行。但是到了14nm以及以下的FinFET高端工艺中，走线的规格变得苛刻，既要考虑空间最小，也要考虑走线的物理设计更优。在EDA高端的设计工具中，走线没有依据不同金属层(MetalLayer)以固定的间距，布线方向、布线格点等高端工艺出现的约束进行处理，这就迫切需要EDA厂商针对芯片制造开发针对高端工艺的交互式布线器。
技术实现思路
为了解决现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种依据轨道的交互式布线方法，能够保证轨道交互式布线的连接性，和一致性，满足制造要求。为实现上述目的，本专利技术提供的依据轨道的交互式布线方法，包括以下步骤：1)设置轨道交互式布线参数；2)选择布线位置，根据所述布线参数使金属线的中心线吸附到对应布线轨道上；3)选择拐弯、跳层进行正交与斜向布线。进一步地，步骤1)所述布线参数，包括，吸附点坐标，金属线的中心线，金属线宽度，线与线间距，线与障碍物间距，点击点的坐标。进一步地，所述步骤2)，进一步包括：对交互式布线起始点的探测性进行优化；动态调整通孔类型使轨道定位到通孔中心；定位非正交走线到所在的轨道上。进一步地，所述对交互式布线起始点的探测性进行优化的步骤，进一步包括：选择不同的布线层；读取用户点选的两点坐标；根据两点坐标与吸附金属线走线轨迹选取允许的最短路径，将金属线的中心线放到吸附格点上；读取需要跳层点的坐标；读取工艺文件中定义的通孔图形的中心点坐标与跳层点坐标重合，完成走线。进一步地，所述动态调整通孔类型使轨道定位到通孔中心的步骤，进一步包括：确定跳层的位置坐标；将通孔放置在通孔中心点坐标与跳层位置坐标重合的位置。进一步地，所述步骤3)进一步包括：对交互式布线层与轨道层的一致性进行优化：对金属线类型与轨道类型匹配度进行优化；对于通孔类型引脚，根据交互式布线方向动态调整布线为通孔宽或者高。进一步地，所述对交互式布线层与轨道层的一致性进行优化的步骤，进一步包括：读取工艺允许的走线路径；将金属中心线依附于工艺允许的走线路径；遇到障碍物自动跳层。更进一步地，所述对金属线类型与轨道类型匹配度进行优化的步骤，进一步包括：读取金属线走线规则；将金属线格点与工艺定义走线重合；将跳层处的通孔中心点与工艺格点重合。为实现上述目的，本专利技术还提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序运行时执行如上文所述的依据轨道的交互式布线方法步骤。为实现上述目的，本专利技术还提供一种集成电路版图中依据轨道交互式布线装置，包括存储器和处理器，所述存储器上储存有在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器运行所述计算机程序时执行如上文所述的依据轨道的交互式布线方法步骤。本专利技术的依据轨道的交互式布线方法，具有以下有益效果：自动检测布线起始端所落在与其相同的轨道层上，根据鼠标指针的移动方向确定走线的方向，遇到障碍时，可以通过手动设置跳线来避开，跳线后，线层改变了，布线同时会自动检测并吸附到所对应的轨道上来，调整中继轨道布线的起始点，来保证轨道交互式布线的连接性，和一致性，满足制造要求。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。附图说明附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，并与本专利技术的实施例一起，用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1为根据本专利技术的依据轨道的交互式布线方法流程图；图2为根据本专利技术的实施例一轨道交互式布线控制选项设置界面示意图；图3为根据本专利技术的实施例一轨道交互式布线参数设置界面示意图；图4为根据本专利技术的实施例一检测到与布线层相同轨道的效果示意图；图5为根据本专利技术的实施例一轨道交互式布线切换方向的卡通图示示意图；图6为根据本专利技术的实施例一135°轨道交互式布线的卡通图示示意图；具体实施方式以下结合附图对本专利技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。图1为根据本专利技术的依据轨道的交互式布线方法流程图，下面将参考图1，对本专利技术的依据轨道的交互式布线方法进行详细描述。首先，在步骤101，接收用户的选择布线参数进行设置。本专利技术实施例中，根据用户选项设置轨道交互式布线参数。优选地，布线参数，包括吸附点坐标，金属线的中心线，金属线宽度，线与线间距，线与障碍物间距，点击点的坐标等。在步骤102，选择布线位置，根据布线参数将金属线的中心线吸附到对应的布线轨道上。本专利技术实施例中，布线位置为用户点击布线的起始点和结束点。本专利技术实施例中，确定对应的布线轨道包括，不同的金属层确定了布线的线宽，线间距，如果所布线的点击点落在同金属附近就需要考虑相同金属层的间距，在保证间距的情况下，使其金属中心线落在格点上，满足工艺要求。该步骤中，通过鼠标点击选择要布线的位置，自动根据布线属性将金属线的中心线吸附到所对应的布线轨道上。本专利技术实施例中，吸附金属线中心线的布线轨道与走线时的周围金属、同层金属需要保持一定的间距，如果不能保持一定的间距则打通孔跳层。本专利技术实施例中，还需要对交互式布线起始点的探测性进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种依据轨道的交互式布线方法，其特征在于，包括以下步骤：/n1）设置轨道交互式布线参数；/n2）选择布线位置，根据所述布线参数使金属线的中心线吸附到对应布线轨道上；/n3）选择拐弯、跳层进行正交与斜向布线。/n

【技术特征摘要】
1.一种依据轨道的交互式布线方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）设置轨道交互式布线参数；
2）选择布线位置，根据所述布线参数使金属线的中心线吸附到对应布线轨道上；
3）选择拐弯、跳层进行正交与斜向布线。


2.根据权利要求1所述的依据轨道的交互式布线方法，其特征在于，步骤1）所述布线参数，包括，吸附点坐标，金属线的中心线，金属线宽度，线与线间距，线与障碍物间距，点击点的坐标。


3.根据权利要求1所述的依据轨道的交互式布线方法，其特征在于，所述步骤2），进一步包括：
对交互式布线起始点的探测性进行优化；
动态调整通孔类型使轨道定位到通孔中心；
定位非正交走线到所在的轨道上。


4.根据权利要求3所述的依据轨道的交互式布线方法，其特征在于，所述对交互式布线起始点的探测性进行优化的步骤，进一步包括：
选择不同的布线层；
读取用户点选的两点坐标；
根据两点坐标与吸附金属线走线轨迹选取允许的最短路径，将金属线的中心线放到吸附格点上；
读取需要跳层点的坐标；
读取工艺文件中定义的通孔图形的中心点坐标与跳层点坐标重合，完成走线。


5.根据权利要求3所述的依据轨道的交互式布线方法，其特征在于，所述动态调整通孔类型使轨道定位到通孔中心的步骤，进一步包括：
确定跳层的位置坐标；
将通孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯小辉，苏鸿昌，黄烨，李起宏，陆涛涛，
申请(专利权)人：北京华大九天软件有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11