【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种应用于包装领域的薄膜及其制作方法,尤其涉及ー种具有气体高阻隔性的薄膜及其制作方法。
技术介绍
在传统エ艺中,一般使用PVDC(聚偏ニ氯こ烯)、EV0H(こ烯-こ烯醇共聚物)、铝塑复合膜等材料来作为阻隔包装材料。其中,PVDC虽然阻隔性能较高,但是存在加工困难,且有一定的环保问题;EVOH则由于吸湿性的问题,可能对加工过程和終端客户的使用造成影响,同时在高压、高湿度条件下阻隔性能下降明显,因而使用受限;铝塑复合膜虽然阻隔性能优异,但是存在不透明的缺点,在包装领域受限明显。为了防止上述问题,当前市场上采用的阻隔性材料为由间苯ニ甲胺和己ニ酸缩聚·得到的聚己ニ酰间苯撑ニ甲胺(MXD6),其与PVDC、EV0H、铝塑复合膜等其他的阻隔性材料相比,具有阻隔性不受温度及湿度的影响,即在煮沸处理或蒸馏处理时具有阻隔性下降少并且恢复快的特点。这尤其使得MXD6适合于高温和潮湿场合使用。但是,MXD6与PVDC、EV0H、铝塑复合膜等其他的阻隔性材料相比,仍然存在阻隔性稍差的问题。而且,MXD6与PA6 (聚酰胺6或尼龙6)薄膜相比,MXD6还存在韧性差的特点,如 ...
【技术保护点】
一种高阻隔性薄膜,其特征在于,所述高阻隔性薄膜为由第一表层、芯层、第二表层组成的三层结构;其中,所述第一表层由0?0.3wt%的爽滑剂、0?0.5wt%的开口剂、10?40wt%的MXD6、59.2?90wt%的PA6切片组成;所述芯层由60?95wt%的MXD6和5?40wt%的PA6切片组成;所述第二表层由0?0.3wt%的爽滑剂、0?0.5wt%的开口剂、10?40wt%的MXD6、59.2?90wt%的PA6切片组成。
【技术特征摘要】
1.ー种高阻隔性薄膜,其特征在于,所述高阻隔性薄膜为由第一表层、芯层、第二表层组成的三层结构;其中,所述第一表层由0-0. 3wt%的爽滑剤、0-0. 5wt %的开ロ剂、10-40wt %的MXD6、59. 2_90wt %的PA6切片组成;所述芯层由60_95wt %的MXD6和5-40wt %的PA6切片组成;所述第二表层由0-0. 3wt %的爽滑剤、0-0. 5wt %的开ロ剂、10-40wt%的 MXD6、59. 2_90wt%的 PA6 切片组成。2.根据权利要求I所述的高阻隔性薄膜,其特征在于,所述第一表层和第二表层分别由O. 3wt%的爽滑剤、O. 2wt%的开ロ剂、30wt%的MXD6和69. 5wt%的PA6切片组成。3.根据权利要求1-2所述的高阻隔性薄膜,其特征在于,所述芯层由65wt%的MXD6和35wt%的PA6切片组成。4.根据权利要求3所述的高阻隔性薄膜,其特征在干,对所述第一表层和第二表层中的至少ー者进行电晕处理。5.根据权利要求3所述的高阻隔性薄膜,其特征在于,所述高阻性薄膜的所述三层结构是通过对第一表层熔体、芯层熔体、第二表层熔体共挤出并进行纵向拉伸和横向拉伸而形成的。6.根据权利要求5所述的高阻隔性薄膜,其特征在于,所述纵向拉伸是通过ー个拉伸辊筒来完成的。7.ー种高阻隔性薄膜的制作方法,包括以下步骤将含有0-0. 3wt%的爽滑剤、0-0. 5wt%的开ロ剂、10-40wt%的MXD6和59. 2_9(^セ%的PA6切片通过熔融挤出获得第一表层熔体;将含有60-95被%的MXD6和5-40Wt%的PA6切片通过熔融挤出获得芯层熔体...
【专利技术属性】
技术研发人员:林凤龙,梁文东,曾进兴,
申请(专利权)人:厦门长塑实业有限公司,
类型:发明
国别省市:
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