【技术实现步骤摘要】
本技术涉及机械生产设备
，具体涉及一种磁控靶水冷罩。
技术介绍
由于活性反应 气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则，该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导，所以靶周围温度很高，有些易变形的产品如塑料、薄片等，在镀膜的过程中会发生变形弯曲，导致产品破坏。
技术实现思路
本技术目的是针对现有技术的不足，提供一种本技术结构简单，实用性强、便于生产制造的一种磁控靶水冷罩。本技术的目的通过以下技术方案实现一种真空镀膜机磁控靶水冷罩，磁控靶安装组装在磁控靶安装座上，其特征在于在所述的安装座上设有磁控靶挡板，在磁控靶挡板与磁控靶相对的内壁上设有冷却水管；所述的冷却水管沿磁控靶挡板内壁均匀排列，该冷却水管上设有进水口、出水口 ；所述的进水口、出水口设在磁控靶挡板的外侧。在所述的磁控靶挡板外侧设有磁控靶外罩。本技术的有益效果在于可有效降低靶周围冷却降低温度，从而提高产品的合格率，而且本装置结构简单，实用性强、便于生产制造。附图说明利用附图对本技术作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本技术的任何限制。图I、图2是本技术示意图。图3是本技术的A-A截面图。在图I、图2、图3中包括I、安装座，2、磁控靶，3、磁控靶挡板，4、磁控靶外罩，5、冷却水管，51、进水口，52、出水口。具体实施方式下面结合实施例对本技术作详细说明。图I、图2、图3中，安装座I上设有磁控靶挡板3，在磁控靶挡板3与磁控靶2相对的内壁上设有冷却水管5 ;所述的冷却水管5沿磁控靶挡板3内壁均匀排列，该冷却水管5上设有进...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机磁控靶水冷罩，磁控靶(2)安装组装在磁控靶安装座(I)上，其特征在于在所述的安装座(I)上设有磁控靶挡板(3)，在磁控靶挡板(3)与磁控靶(2)相对的内壁上设有冷却水管(5);所述的冷却水管(5)沿磁控靶挡板(3...
【专利技术属性】
技术研发人员：潘振强，张德云，肖祥军，
申请(专利权)人：肇庆市振华真空机械有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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